铁电薄膜制备方法的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-23页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·铁电材料的电学性能 | 第10-14页 |
| ·自发极化和电畴 | 第10-11页 |
| ·电滞回线 | 第11-12页 |
| ·居里温度和居里-外斯定律 | 第12-13页 |
| ·介电特性 | 第13-14页 |
| ·热释电特性 | 第14页 |
| ·PLZT薄膜材料的发展现状及趋势 | 第14-20页 |
| ·PLZT铁电薄膜的制备方法 | 第14-17页 |
| ·La掺杂改性研究 | 第17-20页 |
| ·PLZT薄膜的应用前景 | 第20-21页 |
| ·纳秒级PLZT光开关 | 第20-21页 |
| ·热释电红外探测器 | 第21页 |
| ·待解决的问题 | 第21-22页 |
| ·本课题的主要研究内容 | 第22-23页 |
| 2 PLZT薄膜表征方法介绍 | 第23-29页 |
| ·薄膜微结构表征方法 | 第23-25页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第23页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第23-24页 |
| ·电子扫描电镜(SEM) | 第24-25页 |
| ·PLZT薄膜电学性能测试 | 第25-29页 |
| ·介电常数与介电损耗的测量 | 第25-26页 |
| ·热释电系数静态测量 | 第26-27页 |
| ·热释电器件动态响应测试 | 第27-29页 |
| 3 PLZT薄膜制备及特性研究 | 第29-52页 |
| ·PLZT薄膜的制备 | 第29-34页 |
| ·PLZT薄膜制备工艺流程 | 第29页 |
| ·PLZT先体溶液的配制 | 第29-30页 |
| ·DGA/DSC先体粉末的差热分析 | 第30-31页 |
| ·衬底的制备与清洗 | 第31-32页 |
| ·匀胶与烧结 | 第32-33页 |
| ·高温热处理 | 第33页 |
| ·膜厚测量 | 第33-34页 |
| ·PLZT薄膜微观结构表征分析 | 第34-40页 |
| ·不同热处理温度和时间对薄膜表面形貌的影响 | 第34-37页 |
| ·XRD测试及结果分析 | 第37-40页 |
| ·PLZT薄膜电学性能测试与分析 | 第40-50页 |
| ·电极光绘菲林板的设计 | 第40页 |
| ·上电极制备及剥离工艺 | 第40-42页 |
| ·PLZT薄膜漏电流测试 | 第42-45页 |
| ·PLZT薄膜介电特性测试 | 第45-47页 |
| ·C-V及介电特性分析 | 第47-48页 |
| ·铁电性能的测量及结果分析 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-52页 |
| 4 基于三菱化工溶液制备PLZT薄膜及特性研究 | 第52-59页 |
| ·实验准备 | 第52-53页 |
| ·PLZT薄膜热处理条件的确定 | 第53-54页 |
| ·基于购买溶液制备的PLZT薄膜电学性能测试分析 | 第54-57页 |
| ·不同厚度PLZT薄膜电滞回线测试分析 | 第54-55页 |
| ·PLZT薄膜厚度对介电性能的影响 | 第55-56页 |
| ·不同厚度薄膜的C-V曲线测试分析 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 5 PLZT薄膜的热释电性能与红外探测结构试制 | 第59-65页 |
| ·热释电探测工作机理 | 第59-60页 |
| ·PLZT薄膜热释电系数的测量 | 第60-61页 |
| ·制备PLZT薄膜敏感单元的制做 | 第61-63页 |
| ·动态响应测试 | 第63-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 6 结论 | 第65-67页 |
| ·结论 | 第65页 |
| ·展望 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-74页 |
