摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-8页 |
引言 | 第8-9页 |
1 文献综述及论文设想 | 第9-26页 |
·氮氧化物的来源及危害 | 第9-10页 |
·氮氧化物的主要来源 | 第9页 |
·氮氧化物的危害 | 第9-10页 |
·氮氧化物的脱除方法 | 第10-14页 |
·氨(NH_3)选择催化还原法 | 第12-13页 |
·三效催化剂法 | 第13页 |
·烃类选择性催化还原法(HC-SCR) | 第13-14页 |
·HC-SCR研究的催化剂 | 第14-24页 |
·分子筛类催化剂 | 第14-22页 |
·金属氧化物催化剂 | 第22-23页 |
·贵金属催化剂 | 第23-24页 |
·HC-SCR反应机理和动力学研究 | 第24-26页 |
·NO氧化生成NO_2,NO_2再与HC反应的机理 | 第24-25页 |
·HC与NOx反应形成中间物种的氧化转化机理 | 第25页 |
·催化剂表面NO与CH氧化还原机理 | 第25页 |
·NO解离机理 | 第25-26页 |
·选题依据及论文设想 | 第26页 |
2 实验 | 第26-29页 |
·催化剂制备 | 第26-27页 |
·试剂原料 | 第26页 |
·载体及载体处理 | 第26-27页 |
·浸渍法 | 第27页 |
·活性测试钨酸铵氨水溶液 | 第27-28页 |
·C_2H_2-SCR反应的活性实验 | 第27-28页 |
·催化剂表征 | 第28-29页 |
·X射线衍射(XRD) | 第28页 |
·紫外可见漫反射光谱(UV-Vis-DRS) | 第28页 |
·红外光谱(FTIR)测定 | 第28-29页 |
3 结果与讨论 | 第29-38页 |
·钨物种在HZSM-5分子筛上的分散和分布 | 第29-37页 |
·W/HZSM-5催化剂的XRD表征 | 第29-30页 |
·W/HZSM-5催化剂的紫外光谱表征 | 第30-31页 |
·W/HZSM-5催化剂样品的骨架红外光谱 | 第31-33页 |
·HZSM-5的硅铝比对钨分散与钨物种分布的影响 | 第33-35页 |
·W/HZSM-5催化剂上C_2H_2-SCR反应活性研究 | 第35-37页 |
·单体四面体钨物种对C_2H_2-SCR反应促进机制的研究 | 第37-38页 |
结论 | 第38-39页 |
参考文献 | 第39-47页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文及获奖情况 | 第47-48页 |
致谢 | 第48-49页 |