| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 引言 | 第9-37页 |
| ·平板显示产业发展现状 | 第9-13页 |
| ·场发射显示的原理和场致发射理论 | 第13-15页 |
| ·场发射显示原理 | 第13页 |
| ·场致发射的基本原理 | 第13-15页 |
| ·场发射显示阴极的研究进展 | 第15-33页 |
| ·微尖型FED 阴极的研究进展 | 第15-16页 |
| ·基于碳材料的FED 阴极的研究进展 | 第16-17页 |
| ·薄膜FED 阴极的研究进展 | 第17-33页 |
| ·本论文的选题思路和主要研究内容 | 第33-37页 |
| ·高亮度大屏幕显示对 FED 阴极的基本要求 | 第33-34页 |
| ·本论文的选题思路和研究内容 | 第34-36页 |
| ·论文的章节安排 | 第36-37页 |
| 第2章 以Zn_(0.75)Mg_(0.25)O 为半导体层的MISM 型纵向薄膜FED 阴极 | 第37-57页 |
| ·本章引言 | 第37-38页 |
| ·Zn_(1-x)Mg_xS 粉末和薄膜的制备与分析 | 第38-43页 |
| ·Zn_(1-x)Mg_xS 粉末的制备 | 第38-39页 |
| ·Zn_(1-x)Mg_xS 粉末的 X 射线衍射分析结果 | 第39-42页 |
| ·Zn_(1-x)Mg_xS 薄膜的制备和存在的问题 | 第42-43页 |
| ·采用Zn_(1-x)Mg_xO 薄膜作半导体层的MISM 型纵向薄膜FED 阴极 | 第43-55页 |
| ·Zn_(1-x)Mg_xO 的性质和制作方法 | 第43-44页 |
| ·以Zn_(0.75)Mg_(0.25)O 为半导体层的MISM 型阴极的制作工艺 | 第44-45页 |
| ·以Zn_(0.75)Mg_(0.25)O 为半导体层的MISM 型阴极的测试结果及存在问题分析 | 第45-49页 |
| ·金属界面态控制层的引入 | 第49-52页 |
| ·以Zn_(0.75)Mg_(0.25)O 为半导体层的MISM 型 FED 阴极的结构优化 | 第52-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第3章 基于腐蚀多孔氧化铝表面的碳-金-碳复合膜的横向薄膜FED 阴极 | 第57-75页 |
| ·本章引言 | 第57-63页 |
| ·本章研究思路 | 第57-58页 |
| ·无定形碳薄膜的制作方法和性质 | 第58-61页 |
| ·多孔氧化铝工艺简介 | 第61-63页 |
| ·实验部分――采用多孔氧化铝工艺形成不连续薄膜 | 第63-67页 |
| ·实验结果与分析 | 第67-73页 |
| ·腐蚀后形成的多孔氧化铝形貌 | 第67-68页 |
| ·电形成过程 | 第68-70页 |
| ·碳－金－碳复合传导膜的使用 | 第70-71页 |
| ·基于腐蚀后多孔氧化铝和碳－金－碳复合传导膜的阴极的电子发射特性 | 第71-73页 |
| ·本章小结与问题分析 | 第73-75页 |
| 第4章 基于干法刻蚀形成的不连续碳膜的横向薄膜FED 阴极研究 | 第75-96页 |
| ·本章引言 | 第75页 |
| ·不连续金属铋膜的性质 | 第75-78页 |
| ·不连续碳膜的制备 | 第78-80页 |
| ·阴极电子发射的测试结果及分析 | 第80-90页 |
| ·不连续碳薄膜中岛的纵向和横向尺寸对电子发射特性的影响 | 第80-86页 |
| ·电形成过程引起的玻璃衬底变形对电子发射特性的影响 | 第86-88页 |
| ·阳极电压对发射电流的影响 | 第88页 |
| ·真空度对阴极电子发射特性的影响 | 第88-89页 |
| ·基于刻蚀形成的不连续膜的横向电子场发射阴极稳定性测试 | 第89-90页 |
| ·基于不连续碳膜的横向电子发射阴极的电子发射原理 | 第90-94页 |
| ·本章小结 | 第94-96页 |
| 第5章 结论 | 第96-98页 |
| 参考文献 | 第98-105页 |
