磁射流抛光技术研究
| 摘要 | 第1-11页 |
| ABSTRACT | 第11-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-31页 |
| ·课题来源及意义 | 第13-15页 |
| ·课题来源 | 第13页 |
| ·课题研究的背景与意义 | 第13-15页 |
| ·非球面光学零件的加工分析 | 第15-19页 |
| ·非球面加工难度系数 | 第15-17页 |
| ·非球面的曲率效应 | 第17-19页 |
| ·磁射流抛光技术及其发展概况 | 第19-29页 |
| ·非球面抛光方法研究现状 | 第20-23页 |
| ·磁射流抛光技术 | 第23-27页 |
| ·磁射流抛光技术的发展状况 | 第27-29页 |
| ·论文的主要研究内容 | 第29-31页 |
| 第二章 磁射流抛光装置的分析设计 | 第31-45页 |
| ·磁射流抛光装置设计 | 第31-36页 |
| ·磁射流抛光装置需求分析 | 第31-33页 |
| ·机床本体设计 | 第33-35页 |
| ·循环控制系统 | 第35-36页 |
| ·磁射流抛光磁场的设计 | 第36-42页 |
| ·磁化线圈的设计 | 第36-39页 |
| ·屏蔽层的选择 | 第39-42页 |
| ·磁极的优化设计 | 第42-44页 |
| ·磁极对比 | 第42页 |
| ·锥角确定 | 第42-43页 |
| ·磁极的优化 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第三章 磁射流聚束稳定性分析 | 第45-67页 |
| ·磁流变效应 | 第45-50页 |
| ·磁流变液的组成 | 第45-46页 |
| ·磁流变液中的磁链 | 第46-49页 |
| ·磁流变液的磁特性 | 第49-50页 |
| ·磁射流运动方程 | 第50-56页 |
| ·连续介质力学方程 | 第50-51页 |
| ·磁场力 | 第51-54页 |
| ·流体动力学应力 | 第54-56页 |
| ·磁射流运动方程 | 第56页 |
| ·磁射流数值模拟 | 第56-60页 |
| ·计算模型 | 第56-57页 |
| ·自由表面 | 第57-58页 |
| ·边界条件 | 第58页 |
| ·仿真结果 | 第58-60页 |
| ·磁射流聚束实验及讨论 | 第60-66页 |
| ·实验装置 | 第60页 |
| ·实验结果 | 第60-62页 |
| ·稳定性实验 | 第62-64页 |
| ·关于磁场稳定作用的讨论 | 第64-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 第四章 磁射流抛光去除机理的CFD分析 | 第67-85页 |
| ·牛顿流体冲击射流理论 | 第67-69页 |
| ·自由射流 | 第67-68页 |
| ·紊动冲击射流 | 第68-69页 |
| ·冲击角对抛光区形状的影响 | 第69-71页 |
| ·磁射流冲击流场的CFD分析 | 第71-78页 |
| ·磁射流的几个假设 | 第72-73页 |
| ·计算模型 | 第73-74页 |
| ·边界条件 | 第74页 |
| ·结果分析 | 第74-78页 |
| ·材料去除机理的讨论 | 第78-81页 |
| ·材料去除模型 | 第81-84页 |
| ·本章小结 | 第84-85页 |
| 第五章 磁射流抛光修形工艺研究 | 第85-110页 |
| ·工艺参数对磁射流抛光的影响 | 第85-90页 |
| ·磁场强度对去除量的影响 | 第86-87页 |
| ·射流速度对去除量的影响 | 第87页 |
| ·去除量与时间的关系 | 第87-88页 |
| ·抛光液的影响作用 | 第88-89页 |
| ·喷嘴进给步距的影响 | 第89-90页 |
| ·粗糙度实验 | 第90页 |
| ·计算机控制磁射流抛光 | 第90-103页 |
| ·驻留时间求解算法 | 第91-94页 |
| ·抛光位姿 | 第94-97页 |
| ·抛光运动轨迹分析 | 第97-98页 |
| ·面形抛光实验 | 第98-100页 |
| ·高陡度凹表面抛光 | 第100-103页 |
| ·去除函数优化 | 第103-107页 |
| ·去除函数的特性 | 第103页 |
| ·磁射流去除函数的优化 | 第103-107页 |
| ·波纹度去除实验 | 第107-109页 |
| ·本章小结 | 第109-110页 |
| 第六章 总结与展望 | 第110-113页 |
| ·全文总结 | 第110-111页 |
| ·研究展望 | 第111-113页 |
| 致谢 | 第113-114页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第114-115页 |
| 参考文献 | 第115-121页 |
