| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-18页 |
| ·研究背景 | 第8页 |
| ·薄膜温度传感器的研究现状 | 第8-15页 |
| ·金属及合金热敏电阻材料 | 第9-11页 |
| ·非金属陶瓷薄膜热敏电阻材料 | 第11-15页 |
| ·薄膜温度传感器研究现状分析 | 第15-16页 |
| ·本文的研究思路 | 第16-18页 |
| 第二章 薄膜制备技术与表征方法 | 第18-35页 |
| ·常用的薄膜制备手段 | 第18-20页 |
| ·蒸发镀膜 | 第18页 |
| ·离子束镀膜 | 第18-19页 |
| ·磁控溅射镀膜 | 第19页 |
| ·化学气相沉积 | 第19页 |
| ·溶胶－凝胶法 | 第19-20页 |
| ·金属有机物热分解 | 第20页 |
| ·薄膜表面形貌的表征 | 第20-23页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第20-22页 |
| ·原子力显微镜 | 第22-23页 |
| ·薄膜厚度的测量 | 第23-25页 |
| ·薄膜成分的表征 | 第25页 |
| ·薄膜显微结构分析 | 第25-26页 |
| ·薄膜缺陷态分析 | 第26-31页 |
| ·Ni－Al 薄膜缺陷的类型 | 第26-28页 |
| ·慢正电子束技术 | 第28-31页 |
| ·热敏薄膜电学性能测试 | 第31-34页 |
| ·热敏薄膜方块电阻测试 | 第31-33页 |
| ·热敏薄膜电阻温度系数测量 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 Ni－Al 热敏薄膜的制备 | 第35-46页 |
| ·TXZ550－I 磁控溅射镀膜设备及实验过程 | 第35-37页 |
| ·TXZ550－I 磁控溅射镀膜设备 | 第35-37页 |
| ·双靶磁控共溅射 | 第37页 |
| ·Ni－Al 薄膜的制备工艺过程 | 第37-42页 |
| ·基片的选择和清洗 | 第37-38页 |
| ·靶材起辉特性研究 | 第38-40页 |
| ·Ni－Al 热敏薄膜溅射工艺 | 第40-41页 |
| ·热敏薄膜图形的制备 | 第41-42页 |
| ·Ni－Al 热敏薄膜的快速热处理 | 第42-43页 |
| ·薄膜的热敏特性 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第四章 Ni－Al 热敏薄膜成分、表面形貌、显微结构研究 | 第46-60页 |
| ·热敏薄膜的成分研究 | 第46-48页 |
| ·热敏薄膜的厚度测量 | 第48-49页 |
| ·热敏薄膜的表面形貌研究 | 第49-52页 |
| ·热敏薄膜表面形貌的 SEM 分析 | 第49-50页 |
| ·热敏薄膜表面形貌的 AFM 分析 | 第50-52页 |
| ·薄膜显微结构研究 | 第52-55页 |
| ·薄膜缺陷态研究 | 第55-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第五章 Ni－Al 热敏薄膜的电学性能研究 | 第60-67页 |
| ·薄膜的电阻特性研究 | 第60-61页 |
| ·Ni－Al 热敏薄膜的 TCR 测试 | 第61-62页 |
| ·Ni－Al 热敏薄膜的 TCR 测试结果分析 | 第62-65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 第六章 结论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-76页 |
| 附录 | 第76-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 攻读学位期间主要的研究成果 | 第80页 |