金属及其氧化物超细粉体的水热/溶剂热合成与表征
| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-25页 |
| ·水热/溶剂热制备技术简介 | 第10-19页 |
| ·水热制备技术特点 | 第11-12页 |
| ·水热法的分类 | 第12页 |
| ·水热反应动力学及晶体生长机理 | 第12-13页 |
| ·水热法与溶剂热法在材料合成领域的应用进展 | 第13-19页 |
| ·水热溶剂热法在材料合成领域的发展趋势 | 第19页 |
| ·铜及氧化亚铜的研究现状 | 第19-21页 |
| ·氧化铁及镍铁氧体的研究进展 | 第21-23页 |
| ·论文的选题依据及主要研究内容 | 第23-25页 |
| 第二章 实验设备及表征方法 | 第25-28页 |
| ·水热法及溶剂热法的合成设备 | 第25页 |
| ·表征方法及原理 | 第25-28页 |
| ·X射线衍射的测试 | 第25-26页 |
| ·高分辨透射电子显微镜 | 第26页 |
| ·能量色散谱 | 第26页 |
| ·场发射扫描电子显微镜 | 第26-28页 |
| 第三章 水热法合成氧化亚铜晶粒 | 第28-43页 |
| ·实验部分 | 第28-29页 |
| ·实验所需试剂及设备 | 第28页 |
| ·实验步骤 | 第28页 |
| ·产物表征 | 第28-29页 |
| ·结果与讨论 | 第29-36页 |
| ·水热反应温度的影响 | 第29-32页 |
| ·水热反应时间的影响 | 第32-34页 |
| ·前驱物浓度的影响 | 第34-35页 |
| ·添加剂的影响 | 第35-36页 |
| ·反应机理探讨 | 第36页 |
| ·氧化亚铜的晶体生长机理探讨 | 第36-42页 |
| ·Cu_2O的生长基元 | 第36-38页 |
| ·水热条件下晶粒的两类聚集生长 | 第38-40页 |
| ·晶体生长机理分析 | 第40-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 溶剂热法合成铜及其氧化物纳米晶 | 第43-57页 |
| ·实验部分 | 第43-45页 |
| ·实验所需试剂及设备 | 第43页 |
| ·实验步骤 | 第43-45页 |
| ·产物表征 | 第45页 |
| ·结果与讨论 | 第45-53页 |
| ·产物铜与氧化亚铜的能量色散谱(EDS)图 | 第46-47页 |
| ·产物的 XRD分析 | 第47-48页 |
| ·透射电镜与扫描电镜分析 | 第48-50页 |
| ·各不同反应条件对最终产物的影响 | 第50-53页 |
| ·反应机理探讨 | 第53-54页 |
| ·晶体形成机理探讨 | 第54-55页 |
| ·铜纳米晶的形成 | 第54-55页 |
| ·氧化亚铜纳米棒的形成 | 第55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第五章 水热法合成纳米氧化铁及镍铁氧体 | 第57-67页 |
| ·实验部分 | 第57-58页 |
| ·实验所需试剂及设备 | 第57页 |
| ·实验步骤 | 第57页 |
| ·产物表征 | 第57-58页 |
| ·结果与讨论 | 第58-64页 |
| ·产物的 XRD分析 | 第58-59页 |
| ·透射电镜及高分辨电镜分析 | 第59-61页 |
| ·NaOH浓度(加入量)的影响 | 第61-62页 |
| ·反应温度与反应时间的影响 | 第62页 |
| ·反应体系中的其它影响因素 | 第62-64页 |
| ·反应机理探讨 | 第64-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 第六章 结论 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第79-80页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第80页 |
