胶体MoS2的高压拉曼光谱和阻抗特性研究
| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-20页 |
| ·高压物理的历史 | 第8-11页 |
| ·高压下物质的物理变化 | 第11-12页 |
| ·高压物理实验技术 | 第12-14页 |
| ·静高压技术 | 第12页 |
| ·动高压技术 | 第12-14页 |
| ·高压下物质电学特性的测量 | 第14-16页 |
| ·金刚石对顶砧压机中的微电路 | 第14-15页 |
| ·400吨四柱大压机的阻抗测量 | 第15-16页 |
| ·高压激光拉曼光谱法 | 第16-17页 |
| ·总结 | 第17-20页 |
| 第二章 400吨双缸四柱大压机的恢复和调试 | 第20-40页 |
| ·400吨双缸四柱大压机简介 | 第20-22页 |
| ·大压机的历史 | 第20-21页 |
| ·压机压腔剖面图解 | 第21-22页 |
| ·400吨双缸四柱大压机的恢复和调试 | 第22-27页 |
| ·压机油路系统 | 第23-24页 |
| ·压机电气控制系统 | 第24-25页 |
| ·加压过程 | 第25-26页 |
| ·卸压过程 | 第26-27页 |
| ·400吨双缸四柱大压机的压力标定和测量 | 第27-29页 |
| ·压力定标 | 第28-29页 |
| ·压力测量 | 第29页 |
| ·调试与测量结果 | 第29-32页 |
| ·石油醚在流体静高压下的超声声速 | 第29-30页 |
| ·非晶金属在流体静高压下的电阻 | 第30页 |
| ·TiO_2在流体静高压下的电流密度 | 第30页 |
| ·胶体MoS_2在流体静高压下介电常数的变化 | 第30-32页 |
| ·总结 | 第32-40页 |
| 第三章 基于AD593x的阻抗测量仪的制作和标定 | 第40-62页 |
| ·阻抗测量原理及方法 | 第40-45页 |
| ·如何分析阻抗 | 第40-41页 |
| ·阻抗数据分析 | 第41-42页 |
| ·基于阻抗特性的传感器 | 第42-45页 |
| ·优化阻抗电路设计 | 第45页 |
| ·AD593x电容数字转换器件 | 第45-50页 |
| ·电容数字转换器件IDC | 第45-46页 |
| ·AD5933芯片功能 | 第46-47页 |
| ·离散傅立叶变换(DFT)原理 | 第47-48页 |
| ·AD5933的阻抗测量原理 | 第48-50页 |
| ·基于AD5933的阻抗分析仪 | 第50-57页 |
| ·原理、PCB设计及制板 | 第50页 |
| ·下位机控制软件 | 第50-51页 |
| ·上位机控制软件 | 第51-53页 |
| ·阻抗测量流程 | 第53-54页 |
| ·阻抗分析仪的标定 | 第54-56页 |
| ·阻抗测量操作步骤 | 第56-57页 |
| ·胶体MoS_2的高压阻抗测量结果 | 第57-59页 |
| ·纯电容的阻抗谱 | 第57页 |
| ·胶体MoS_2粉剂的高压阻抗谱 | 第57-59页 |
| ·总结 | 第59-62页 |
| 第四章 MoS_2的高压拉曼散射研究 | 第62-68页 |
| ·背景 | 第62页 |
| ·MoS_2的研究现状及目的 | 第62-63页 |
| ·MoS_2的高压拉曼光谱实验 | 第63页 |
| ·MoS_2的高压拉曼光谱 | 第63-67页 |
| ·MoS_2的高压拉曼光谱 | 第63页 |
| ·MoS_2的拉曼位移随压力的变化 | 第63-65页 |
| ·MoS_2的拉曼峰的强度随压力的变化 | 第65-66页 |
| ·MoS_2的拉曼峰半高宽随压力的变化 | 第66-67页 |
| ·结论与讨论 | 第67-68页 |
| 第五章 总结与展望 | 第68-72页 |
| ·压机调试与恢复 | 第68页 |
| ·阻抗测量仪制作 | 第68-69页 |
| ·胶体MoS_2的高压Raman散射研究 | 第69-70页 |
| ·展望 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-74页 |
| 攻读硕士学位期间发表和待发表的论文 | 第74-76页 |
| 致谢 | 第76页 |
