| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-11页 |
| 第二章 文献综述 | 第11-31页 |
| ·研究背景 | 第11-13页 |
| ·国外现状 | 第12页 |
| ·国内现状 | 第12-13页 |
| ·光催化性能研究 | 第13-21页 |
| ·光催化机理 | 第13-14页 |
| ·TiO_2光催化性能的影响因素 | 第14-16页 |
| ·晶体结构的影响 | 第14-15页 |
| ·TiO_2表面活性的影响 | 第15页 |
| ·其他影响因素 | 第15-16页 |
| ·TiO_2光催化的改性 | 第16-21页 |
| ·过渡金属离子掺杂 | 第16-17页 |
| ·强酸修饰 | 第17-18页 |
| ·沉积贵重金属 | 第18页 |
| ·复合半导体 | 第18-20页 |
| ·投加氧化剂 | 第20-21页 |
| ·掺杂非金属离子 | 第21页 |
| ·采用微波加热 | 第21页 |
| ·、TiO_2超亲水性研究 | 第21-25页 |
| ·TiO_2超亲水性机理 | 第22-23页 |
| ·影响TiO_2亲水性的因素 | 第23-25页 |
| ·薄膜厚度 | 第23页 |
| ·薄膜表面形貌 | 第23页 |
| ·光源、紫外光照射时间和强度 | 第23-24页 |
| ·TiO_2晶面 | 第24页 |
| ·环境气氛 | 第24页 |
| ·热处理条件 | 第24-25页 |
| ·TiO_2制备方法 | 第25-28页 |
| ·溶胶—凝胶法(Sol-Gel) | 第25-26页 |
| ·物理气相沉积(Physical Vapour Deposition) | 第26页 |
| ·喷雾热分解法(Spray Pyrolysis) | 第26-27页 |
| ·化学气相沉积(Chemical Vapour Deposition) | 第27-28页 |
| ·介质阻挡放电化学气相沉积(Dielectric Barrier Discharge Chemical Vapour Deposition) | 第28-29页 |
| ·选题角度的确定 | 第29-31页 |
| 第三章 实验部分 | 第31-40页 |
| ·DBD-CVD实验装置 | 第31-33页 |
| ·DBD-CVD系统的构成 | 第31-32页 |
| ·电源 | 第32页 |
| ·真空系统 | 第32页 |
| ·介质阻挡放电系统 | 第32-33页 |
| ·气体流量控制与显示系统 | 第33页 |
| ·原料体系的确定 | 第33页 |
| ·样品制备过程 | 第33-35页 |
| ·基板预处理 | 第34页 |
| ·TTIP的灌制和封装 | 第34页 |
| ·实验流程 | 第34-35页 |
| ·测试方法 | 第35-40页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第35页 |
| ·激光Raman谱 | 第35页 |
| ·场发射扫描电镜(FE-SEM) | 第35-36页 |
| ·紫外可见透过光谱 | 第36页 |
| ·可见光、中远红外反射率测试 | 第36-37页 |
| ·方块电阻测试 | 第37页 |
| ·薄膜光催化性能的测试 | 第37-39页 |
| ·薄膜亲水性的表征 | 第39-40页 |
| 第四章 沉积温度对TiO_2单层薄膜的结构、表面形貌以及性能的影响 | 第40-50页 |
| ·沉积温度对薄膜晶体结构的影响 | 第40-41页 |
| ·沉积温度对薄膜表面形貌的影响 | 第41-44页 |
| ·沉积温度对薄膜光学性能的影响 | 第44-45页 |
| ·沉积温度对薄膜光催化性能的影响 | 第45-46页 |
| ·沉积温度对薄膜亲水性能的影响 | 第46-48页 |
| ·小结 | 第48-50页 |
| 第五章 沉积电压对TiO_2单层薄膜的结构、表面形貌以及性能的影响 | 第50-57页 |
| ·沉积电压对薄膜晶体结构的影响 | 第50-51页 |
| ·沉积电压对薄膜表面形貌的影响 | 第51-52页 |
| ·沉积电压对薄膜光学性能的影响 | 第52-54页 |
| ·沉积电压对薄膜光催化性能的影响 | 第54-55页 |
| ·沉积电压对薄膜亲水性能的影响 | 第55-56页 |
| ·小结 | 第56-57页 |
| 第六章 TiO_2／SnO_2:F复合薄膜的结构、表面形貌以及性能的研究 | 第57-70页 |
| ·反应时间对TiO_2／SnO_2:F复合薄膜晶体结构的影响 | 第57-59页 |
| ·反应时间对TiO_2／SnO_2:F复合薄膜表面形貌的影响 | 第59-61页 |
| ·反应时间对TiO_2／SnO_2:F复合薄膜光学性能的影响 | 第61-63页 |
| ·反应时间对TiO_2／SnO_2:F复合薄膜光催化性能的影响 | 第63-64页 |
| ·反应时间对TiO_2／SnO_2:F复合薄膜亲水性能的影响 | 第64页 |
| ·反应时间对TiO_2／SnO_2:F复合薄膜方块电阻、中远红外反射率的影响 | 第64-68页 |
| ·小结 | 第68-70页 |
| 第七章 总结与展望 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-77页 |
| 研究生期间发表的学术论文 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
