微惯性测量系统关键器件的研究
第一章 绪论 | 第1-18页 |
·研究的出发点和意义 | 第9-10页 |
·研究背景 | 第10-17页 |
·MEMS 发展背景 | 第10-12页 |
·微型惯性测量系统的研究背景 | 第12-17页 |
·本章小结 | 第17-18页 |
第二章 微惯性测量系统及微型化的关键 | 第18-21页 |
·微惯性测量系统构成 | 第18页 |
·微惯性测量系统的技术特色 | 第18-19页 |
·微惯性测量系统的微型化的关键问题 | 第19-20页 |
·本章小结 | 第20-21页 |
第三章 高 G 值硅微加速度计的设计与制造 | 第21-40页 |
·微加速度计类型的选择及技术指标的确定 | 第21-22页 |
·硅微高 g 值加速度计设计方案 | 第22-34页 |
·压阻式加速度传感器的原理 | 第22-28页 |
·结构设计 | 第28-34页 |
·温度补偿的设计方法 | 第34-39页 |
·补偿原理及方法 | 第34-38页 |
·加速度计的温度补偿电路 | 第38-39页 |
·本章小结 | 第39-40页 |
第四章 “自锁式”微电磁开关的设计 | 第40-55页 |
·微型开关类型的确定 | 第40页 |
·自锁式电磁微开关的原理及结构 | 第40-43页 |
·开关的结构及其组成 | 第42页 |
·开关的工作原理 | 第42-43页 |
·微机械结构的设计与优化 | 第43-47页 |
·微电磁开关的仿真 | 第47-54页 |
·ANSYS 软件介绍 | 第47-48页 |
·微开关电磁分析过程 | 第48-54页 |
·本章小结 | 第54-55页 |
第五章 微惯性测量系统关键器件工艺的研究 | 第55-72页 |
·MEMS 工艺介绍 | 第55-62页 |
·掺杂技术 | 第55-56页 |
·光刻技术 | 第56-57页 |
·湿法腐蚀 | 第57-58页 |
·干法腐蚀 | 第58-59页 |
·LPCVD 技术 | 第59页 |
·物理气相淀积--溅射 | 第59-60页 |
·LIGA 加工工艺 | 第60-61页 |
·准 LIGA 工艺 | 第61-62页 |
·加速度计的制备工艺 | 第62-66页 |
·掺杂类型和掺杂浓度的选择 | 第62-63页 |
·电阻条的参数及结构 | 第63-65页 |
·引线孔的选择 | 第65页 |
·引线及压焊块的选择 | 第65-66页 |
·划片道的设计 | 第66页 |
·加速度计工艺流程 | 第66-71页 |
·本章小结 | 第71-72页 |
第六章 微惯性测量系统中微开关的测试 | 第72-76页 |
·微开关参数的测试 | 第72-74页 |
·微开关应用初步测评 | 第74-75页 |
·本章小结 | 第75-76页 |
结论 | 第76-77页 |
附录 1 | 第77-81页 |
附录 2 | 第81-84页 |
参考文献 | 第84-88页 |
攻读硕士期间发表的论文及所取得的研究成果 | 第88-89页 |
致谢 | 第89页 |