偏压占空比对电弧离子镀氮化物薄膜结构和性能的影响
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-30页 |
| ·研究背景 | 第10-11页 |
| ·离子镀技术 | 第11-14页 |
| ·离子轰击对基体表面的作用 | 第12页 |
| ·离子轰击对基材和薄膜交界的影响 | 第12-13页 |
| ·薄膜生长过程中离子轰击的作用 | 第13-14页 |
| ·阴极电弧离子镀技术 | 第14-18页 |
| ·阴极电弧离子镀的特点 | 第14页 |
| ·阴极电弧离子镀技术的原理 | 第14-15页 |
| ·阴极电弧离子镀的工艺参数 | 第15-17页 |
| ·液滴（大颗粒） | 第17-18页 |
| ·阴极电弧离子镀的应用 | 第18页 |
| ·阴极电弧离子镀技术制备薄膜 | 第18-25页 |
| ·TiN 薄膜研究现状 | 第19-21页 |
| ·CrN 薄膜研究现状 | 第21-22页 |
| ·ZrN 薄膜研究现状 | 第22-24页 |
| ·TiAlN 薄膜研究现状 | 第24-25页 |
| ·脉冲偏压阴极电弧离子镀的研究现状 | 第25-29页 |
| ·脉冲偏压的大颗粒净化作用 | 第25-26页 |
| ·脉冲偏压的低温沉积 | 第26-27页 |
| ·脉冲偏压的沉积速率 | 第27页 |
| ·脉冲偏压的内应力和结合力 | 第27-28页 |
| ·脉冲偏压的微观组织结构 | 第28页 |
| ·脉冲偏压的对显微硬度的影响 | 第28-29页 |
| ·论文研究内容 | 第29-30页 |
| 第二章 实验方法与设备 | 第30-34页 |
| ·镀膜材料 | 第30页 |
| ·镀膜设备 | 第30-31页 |
| ·镀膜工艺 | 第31页 |
| ·薄膜的表征 | 第31-32页 |
| ·表面形貌 | 第31-32页 |
| ·结构成分 | 第32页 |
| ·力学性能 | 第32页 |
| ·摩擦磨损试验 | 第32-34页 |
| 第三章 占空比对 TiN 薄膜性能的影响研究 | 第34-42页 |
| ·TiN 薄膜的成膜速率 | 第34-35页 |
| ·TiN 薄膜的表面形貌与粗糙度 | 第35-36页 |
| ·TiN 薄膜的相组成 | 第36-37页 |
| ·TiN 薄膜的显微硬度 | 第37-38页 |
| ·TiN 薄膜的膜/基结合力 | 第38页 |
| ·TiN 薄膜的摩擦磨损性能 | 第38-40页 |
| ·本章小结 | 第40-42页 |
| 第四章 占空比对 CrN 薄膜性能的影响研究 | 第42-49页 |
| ·CrN 薄膜的成膜速率 | 第42页 |
| ·CrN 薄膜表面形貌与粗糙度 | 第42-44页 |
| ·CrN 薄膜的相组成 | 第44-45页 |
| ·CrN 薄膜显微硬度 | 第45页 |
| ·CrN 薄膜的膜/基结合力 | 第45-46页 |
| ·CrN 薄膜的摩擦磨损性能 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第五章 占空比对 ZrN 薄膜性能的影响研究 | 第49-56页 |
| ·ZrN 薄膜的成膜速率 | 第49页 |
| ·ZrN 薄膜的表面形貌和粗糙度 | 第49-50页 |
| ·ZrN 薄膜的相组成 | 第50-51页 |
| ·ZrN 薄膜的显微硬度 | 第51-52页 |
| ·ZrN 薄膜的膜/基结合力 | 第52-53页 |
| ·ZrN 薄膜的摩擦磨损性能 | 第53-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第六章 占空比对 TiAlN 薄膜性能的影响研究 | 第56-63页 |
| ·TiAlN 薄膜的成膜速率 | 第56页 |
| ·TiAlN 薄膜的表面形貌和粗糙度 | 第56-58页 |
| ·TiAlN 薄膜的相组成 | 第58-59页 |
| ·TiAlN 薄膜的显微硬度 | 第59页 |
| ·TiAlN 薄膜的膜基结合力 | 第59-60页 |
| ·TiAlN 薄膜的摩擦磨损性能 | 第60-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第七章 结论 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-72页 |
| 个人简历 | 第72页 |
