摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-11页 |
第一章 绪论 | 第11-23页 |
·引言 | 第11-16页 |
·ZnO 薄膜的结构 | 第12-14页 |
·ZnO 的 n 型掺杂和 p 型掺杂 | 第14-16页 |
·ZnO 薄膜的制备方法 | 第16-19页 |
·磁控溅射法 | 第16-17页 |
·脉冲激光沉积法 | 第17页 |
·分子束外延法 | 第17页 |
·电子束蒸发法 | 第17-18页 |
·金属有机化学气相沉 | 第18页 |
·喷雾热解法 | 第18页 |
·溶胶-凝胶法 | 第18-19页 |
·研究现状与存在问题 | 第19-22页 |
·本文主要研究内容 | 第22-23页 |
第二章 实验原理以及表征方法 | 第23-32页 |
·射频磁控溅射仪原理 | 第23-26页 |
·气体放电现象与等离子体 | 第23-24页 |
·射频磁控溅射的原理 | 第24-26页 |
·实验材料 | 第26-27页 |
·实验操作流程 | 第27-29页 |
·清洗石英基片 | 第27页 |
·抽真空 | 第27-28页 |
·镀膜操作 | 第28页 |
·关机 | 第28-29页 |
·样品分析测试技术 | 第29-31页 |
·X 射线衍射 | 第29页 |
·X 射线光电子能谱 | 第29页 |
·扫描电子显微镜 | 第29-30页 |
·原子力显微镜 | 第30页 |
·薄膜厚度测量仪 | 第30页 |
·霍尔效应测试系统 | 第30页 |
·光学测试 | 第30-31页 |
·沉积薄膜的拉开试验 | 第31页 |
·小结 | 第31-32页 |
第三章 低温下玻璃衬底上 AZO 薄膜的制备及性能研究 | 第32-40页 |
·低温下 AZO 薄膜的制备 | 第32-33页 |
·工艺参数对低温制备 AZO 薄膜性能及生长速率的影响 | 第33-38页 |
·溅射功率对 AZO 薄膜光电性能及生长速率的调控规律 | 第33-36页 |
·工作压强对薄膜光电性能及沉积速率的影响 | 第36-38页 |
·小结 | 第38-40页 |
第四章 在玻璃衬底上高速沉积有自然织构的 AZO 薄膜 | 第40-50页 |
·引言 | 第40-41页 |
·带有自然织构的 AZO 薄膜的制备过程 | 第41-42页 |
·性能表征与结果分析 | 第42-49页 |
·工作压强对薄膜表面形貌、光电性能及生长速率的影响 | 第42-45页 |
·衬底温度对薄膜性能的影响 | 第45-49页 |
·小结 | 第49-50页 |
第五章 柔性透明耐高温聚酰亚胺衬底上 AZO 薄膜的制备以及性能研究 | 第50-59页 |
·引言 | 第50-51页 |
·柔性透明耐高温聚酰亚胺衬底上 AZO 薄膜的制备过程 | 第51-52页 |
·基片的清洗以及处理 | 第51-52页 |
·柔性透明耐高温聚酰亚胺衬底上 AZO 薄膜的制备 | 第52页 |
·性能表征及结果分析 | 第52-58页 |
·衬底温度对在柔性透明耐高温聚酰亚胺衬底上制备 AZO 薄膜的性能影响 | 第52-56页 |
·溅射功率对在柔性透明耐高温聚酰亚胺衬底上制备 AZO 薄膜的性能影响 | 第56-58页 |
·小结 | 第58-59页 |
第六章 不透明耐高温聚酰亚胺衬底上 AZO/Al 复合薄膜的制备以及性能研究 | 第59-72页 |
·引言 | 第59-60页 |
·复合薄膜的制备过程 | 第60-61页 |
·基片的清洗以及处理 | 第60-61页 |
·柔性不透明耐高温聚酰亚胺衬底上 AZO/Al 薄膜的制备 | 第61页 |
·复合薄膜的性能表征与结果分析 | 第61-71页 |
·电学性能测试 | 第61-62页 |
·光学性能测试 | 第62-63页 |
·XRD 测试 | 第63-64页 |
·SEM 测试 | 第64-66页 |
·XPS 分析 | 第66-69页 |
·薄膜的拉开试验 | 第69-71页 |
·小结 | 第71-72页 |
第七章 总结 | 第72-74页 |
参考文献 | 第74-80页 |
致谢 | 第80-81页 |
攻读硕士学位期间发表的论文 | 第81页 |