Abstract: | 第1-5页 |
Key Words: | 第5-6页 |
Ⅰ Introduction: | 第6-7页 |
Ⅱ Preparation and Experiments | 第7-11页 |
1 ). The choosing of experimental methods: | 第7-9页 |
2 ). The cleansing of the substrates: | 第9-10页 |
3 ). Experiments: | 第10-11页 |
Ⅲ Results and Analysis | 第11-29页 |
1 ). Superficial morphology-AFM profiles: | 第11-15页 |
2 ). X-ray Diffraction: | 第15-18页 |
3 ). Diameters of crystallites | 第18-20页 |
4 ). Fabricating velocity and refractive index: | 第20-23页 |
5 ). Raman spectrum: | 第23-25页 |
6 ). Fluorescent spectrum: | 第25-28页 |
a). Excitation spectrum: | 第26页 |
b). Emission spectrum: | 第26-28页 |
7 ). Uv-sivible spectrum: | 第28-29页 |
Ⅳ Photocatalysis: | 第29-35页 |
1 ). The principal of the degradation: | 第29-30页 |
2 ) Experimental equipment's layout is as following: | 第30页 |
3 ). Experiment procedures: | 第30-31页 |
4 ). Experiment results: | 第31-32页 |
5 ). Result analysis: | 第32页 |
6 ). The influence of film's thickness, substrates and annealing treatment: | 第32-35页 |
a). The influence of different sputtering time | 第32-33页 |
b). The influence of different substrates: | 第33-34页 |
c). The influence of annealing temperature: | 第34-35页 |
d). Further experiment shows that: | 第35页 |
Ⅴ Conclusion: | 第35-37页 |
Ⅵ Reference List: | 第37-40页 |
Ⅶ Paper issued during study | 第40-41页 |
Ⅷ Acknowledgement: | 第41页 |