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ZnO薄膜的磁控溅射法制备及特性研究

Abstract:第1-5页
Key Words:第5-6页
Ⅰ Introduction:第6-7页
Ⅱ Preparation and Experiments第7-11页
 1 ). The choosing of experimental methods:第7-9页
 2 ). The cleansing of the substrates:第9-10页
 3 ). Experiments:第10-11页
Ⅲ Results and Analysis第11-29页
 1 ). Superficial morphology-AFM profiles:第11-15页
 2 ). X-ray Diffraction:第15-18页
 3 ). Diameters of crystallites第18-20页
 4 ). Fabricating velocity and refractive index:第20-23页
 5 ). Raman spectrum:第23-25页
 6 ). Fluorescent spectrum:第25-28页
  a). Excitation spectrum:第26页
  b). Emission spectrum:第26-28页
 7 ). Uv-sivible spectrum:第28-29页
Ⅳ Photocatalysis:第29-35页
 1 ). The principal of the degradation:第29-30页
 2 ) Experimental equipment's layout is as following:第30页
 3 ). Experiment procedures:第30-31页
 4 ). Experiment results:第31-32页
 5 ). Result analysis:第32页
 6 ). The influence of film's thickness, substrates and annealing treatment:第32-35页
  a). The influence of different sputtering time第32-33页
  b). The influence of different substrates:第33-34页
  c). The influence of annealing temperature:第34-35页
  d). Further experiment shows that:第35页
Ⅴ Conclusion:第35-37页
Ⅵ Reference List:第37-40页
Ⅶ Paper issued during study第40-41页
Ⅷ Acknowledgement:第41页

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