| 第1章 绪论 | 第1-14页 |
| ·红外光纤发展概论 | 第8-9页 |
| ·红外光纤的材料和种类 | 第9-10页 |
| ·玻璃光纤的种类及特点 | 第10-12页 |
| ·重金属氧化物玻璃光纤 | 第10-11页 |
| ·硫化物玻璃 | 第11页 |
| ·卤化物玻璃 | 第11页 |
| ·硫卤化物玻璃 | 第11-12页 |
| ·硫卤玻璃的研究现状 | 第12-14页 |
| 第2章 实验理论 | 第14-23页 |
| ·光导纤维 | 第14-15页 |
| ·光纤的传光原理 | 第14页 |
| ·纤的主要特点 | 第14-15页 |
| ·光纤材料损耗的产生 | 第15-18页 |
| ·光纤损耗大小的定义 | 第15-16页 |
| ·本征吸收损耗 | 第16页 |
| ·非本征吸收损耗 | 第16-17页 |
| ·本征散射损耗 | 第17-18页 |
| ·非本征散射损耗 | 第18页 |
| ·结构不完善散射损耗 | 第18页 |
| ·受激Brillouin散射和Raman散射 | 第18页 |
| ·化学键对生成玻璃态的作用 | 第18-21页 |
| ·σ键的优势 | 第19页 |
| ·“桥”在结构中的作用 | 第19-20页 |
| ·π键的复杂作用 | 第20-21页 |
| ·其他类型键的作用 | 第21页 |
| ·从化学键的角度分析该体系的选择 | 第21-23页 |
| 第3章 Ge-X-S-KCl(X=Ga，In)玻璃的制备 | 第23-27页 |
| ·工艺流程 | 第23页 |
| ·块状玻璃的制备 | 第23-26页 |
| ·试剂与仪器 | 第23页 |
| ·实验准备 | 第23-24页 |
| ·石英安瓿的清洗 | 第23-24页 |
| ·原料的预处理 | 第24页 |
| ·实验过程 | 第24页 |
| ·原料的称量 | 第24页 |
| ·石英安瓿的熔封 | 第24页 |
| ·玻璃的熔制 | 第24-25页 |
| ·玻璃的退火 | 第25-26页 |
| ·玻璃性质测试 | 第26-27页 |
| ·X射线衍射测试 | 第26页 |
| ·差热及热重综合分析测试 | 第26页 |
| ·紫外可见光谱测试 | 第26页 |
| ·红外透过光谱测试 | 第26页 |
| ·激光拉曼光谱测试 | 第26页 |
| ·抗潮解性能测试 | 第26-27页 |
| 第4章 GeS_2-Ga_2S_3-KCl系统玻璃的实验结果 | 第27-43页 |
| ·玻璃形成区的确定 | 第27-30页 |
| ·X射线衍射结果 | 第30-33页 |
| ·玻璃的热性能及形成能力 | 第33-35页 |
| ·玻璃的光学性质 | 第35-39页 |
| ·玻璃的红外光谱 | 第35-38页 |
| ·玻璃的紫外-可见光谱 | 第38-39页 |
| ·玻璃的拉曼光谱及微结构 | 第39-43页 |
| 第5章 GeS_2-In_2S_3-KCl系统玻璃的实验结果 | 第43-60页 |
| ·玻璃形成区的确定 | 第43-45页 |
| ·二元系统玻璃的形成范围 | 第43页 |
| ·三元系统玻璃的形成范围 | 第43-45页 |
| ·X射线衍射结果 | 第45-48页 |
| ·玻璃的热性能及形成能力 | 第48-50页 |
| ·玻璃的光学性质 | 第50-54页 |
| ·玻璃的红外光谱 | 第50-52页 |
| ·玻璃的紫外光谱 | 第52-54页 |
| ·玻璃的拉曼光谱及微结构 | 第54-60页 |
| 第6章 分析与讨论 | 第60-68页 |
| ·研究体系的玻璃形成范围 | 第60-62页 |
| ·玻璃的热性能和化学稳定性 | 第62-63页 |
| ·玻璃的光学性质 | 第63-64页 |
| ·玻璃的红外光谱 | 第63-64页 |
| ·玻璃的紫外-可见光谱 | 第64页 |
| ·玻璃的抗潮解性能测试 | 第64-65页 |
| ·玻璃的拉曼光谱分析 | 第65-68页 |
| ·GeS_2玻璃的结构 | 第65页 |
| ·GeS_2-Ga_2S_3-KCl玻璃的结构 | 第65-66页 |
| ·研究体系玻璃的结构 | 第66-68页 |
| 第7章 结论 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 附录 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74页 |
