| 第一章 微粒场激光全息照相的基本理论 | 第1-19页 |
| 1．1 研究背景和意义 | 第9页 |
| 1．2 国内外研究现状 | 第9-14页 |
| 1．3 全息照相的原理 | 第14-17页 |
| 1．4 本论文的实验装置和编写思路 | 第17-19页 |
| 第二章 全息照相的基本条件研究 | 第19-39页 |
| 2．1 前言 | 第19页 |
| 2．2 记录介质分辨率的要求 | 第19-21页 |
| 2．3 微粒的最小位移 | 第21-23页 |
| 2．4 激光能量的确定 | 第23-30页 |
| 2．5 高斯光束照射下影响 | 第30-35页 |
| 2．6 其他问题 | 第35-37页 |
| 2．7 本章小结 | 第37-39页 |
| 第三章 全息图的远场数与对比度 | 第39-57页 |
| 3．1 前言 | 第39-40页 |
| 3．2 远场数的理论分析和实验结果 | 第40-53页 |
| 3．3 再现光强对再现像采集的影响 | 第53-54页 |
| 3．4 实验中出现的问题 | 第54页 |
| 3．5 使用高通滤波器 | 第54-55页 |
| 3．6 本章小结 | 第55-57页 |
| 第四章 4f傅立叶变换透镜对粒子场全息的影响 | 第57-75页 |
| 4．1 4f系统的传像作用 | 第57-59页 |
| 4．2 4f系统对三维粒子场记录的影响 | 第59-61页 |
| 4．3 用几何光学理论分析物场搬移规律 | 第61-62页 |
| 4．4 4f系统的信息通过量及景深 | 第62-69页 |
| 4．5 放大的4f系统对粒子的全息图的条纹对比度和再现像的影响 | 第69-73页 |
| 4．6 4f系统对光场的影响 | 第73页 |
| 4．7 本章小结 | 第73-75页 |
| 第五章 同轴全息再现粒子场的特性 | 第75-86页 |
| 5．1 前言 | 第75页 |
| 5．2 聚焦平面上的光强分布 | 第75-78页 |
| 5．3 数值分析 | 第78-84页 |
| 5．4 两层粒子再现时的照片 | 第84-85页 |
| 5．5 本章小结 | 第85-86页 |
| 第六章 论文总结 | 第86-89页 |
| 6．1 照相的基本条件 | 第86-87页 |
| 6．2 粒子的远场数的限制和干板的响应能力 | 第87页 |
| 6．3 4f系统的传像作用和物场的摆放 | 第87页 |
| 6．4 再现光场的分析 | 第87-89页 |
| 致谢 | 第89-90页 |
| 在读期间发表的文章 | 第90-91页 |
| 参考文献 | 第91-93页 |