| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-12页 |
| 参考文献 | 第11-12页 |
| 第二章 基础理论 | 第12-27页 |
| ·纳米晶软磁材料起因 | 第12-20页 |
| ·非晶中的随机各向异性模型 | 第12-13页 |
| ·纳米晶中的随机各向异性模型 | 第13-20页 |
| ·软磁材料中的动态磁化机制 | 第20-26页 |
| ·磁滞回线形状 | 第20-21页 |
| ·磁畴和畴壁移动 | 第21-23页 |
| ·复数磁导率 | 第23-26页 |
| 参考文献 | 第26-27页 |
| 第三章 样品的制备与测试 | 第27-42页 |
| ·样品的制备 | 第27-33页 |
| ·磁控溅射的基本原理 | 第27-31页 |
| ·溅射工艺参数的选择 | 第31-32页 |
| ·样品的制备及处理过程 | 第32-33页 |
| ·测试方法 | 第33-41页 |
| ·微结构 | 第33-34页 |
| ·磁性测量 | 第34-37页 |
| ·成分测量 | 第37-38页 |
| ·厚度的测量 | 第38页 |
| ·高频磁导率的测量 | 第38-41页 |
| 参考文献 | 第41-42页 |
| 第四章 300℃衬底温度下Ta/Nd_X(FeCo)_(100-X)/Ta样品结构与磁性研究 | 第42-48页 |
| ·微结构 | 第43-44页 |
| ·磁性 | 第44-47页 |
| 参考文献 | 第47-48页 |
| 第五章 退火温度对Ta/Nd_X(FeCo)_(100-X)/Ta薄膜结构和磁性的影响 | 第48-67页 |
| ·磁控溅射方法制备Ta/Nd_X(FeCo)_(100-X)/Ta样品 | 第48-49页 |
| ·退火温度对薄膜结构和磁性的影响 | 第49-56页 |
| ·微结构 | 第49-51页 |
| ·退火温度对薄膜磁性的影响 | 第51-56页 |
| ·薄膜磁性与Nd掺杂含量的关系 | 第56-60页 |
| ·薄膜的高频磁性 | 第60-63页 |
| ·小结 | 第63-66页 |
| 参考文献 | 第66-67页 |
| 第六章 结论 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
