| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 引言 | 第7-13页 |
| ·铁电体材料概述 | 第7-9页 |
| ·钙钛矿结构的铁电材料—锆钛酸铅(PZT) | 第9-11页 |
| ·反铁电薄膜的简介及应用 | 第11-12页 |
| ·在高K材料上生长反铁电薄膜的研究 | 第12页 |
| ·本论文研究的背景意义 | 第12-13页 |
| 第二章 铁电/反铁电薄膜的制备工艺和分析方法 | 第13-24页 |
| ·铁电/反铁电薄膜的制备工艺 | 第13-16页 |
| ·溶胶—凝胶法 | 第13-15页 |
| ·金属有机物化学气相沉积 | 第15页 |
| ·溅射法 | 第15-16页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第16页 |
| ·铁电/反铁电薄膜的分析方法 | 第16-24页 |
| ·相结构XRD分析 | 第16-17页 |
| ·原子力显微镜分析 | 第17-18页 |
| ·扫描电镜分析 | 第18-20页 |
| ·电学测量分析 | 第20-24页 |
| 第三章 对PZT反铁电薄膜不同制备条件的研究 | 第24-31页 |
| ·引言 | 第24-25页 |
| ·不同退火温度的反铁电薄膜 | 第25-28页 |
| ·不同铅过量的反铁电薄膜 | 第28-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第四章 对PZT类反铁电薄膜的研究 | 第31-36页 |
| ·引言 | 第31页 |
| ·H~+离子注入PZT铁电薄膜产生类反铁电的原因 | 第31-34页 |
| ·Ar~+离子注入PZT铁电薄膜 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第五章 高K材料上PZT反铁电薄膜的制备及测试分析 | 第36-47页 |
| ·引言 | 第36页 |
| ·Al_2O_3上PZT反铁电薄膜的制备 | 第36-40页 |
| ·先体的配置过程 | 第36-37页 |
| ·薄膜的制备过程 | 第37-38页 |
| ·反铁电电容的制备流程 | 第38-40页 |
| ·PZT反铁电薄膜的XRD相结构 | 第40-41页 |
| ·Al_2O_3上PZT反铁电薄膜的电滞回线变化 | 第41-44页 |
| ·Al_2O_3上PZT反铁电薄膜的C-V特性 | 第44-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第六章 全文总结 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-50页 |
| 攻读硕士期间发表的论文情况 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |