| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| ·课题背景 | 第10页 |
| ·静电雾化技术概述 | 第10-12页 |
| ·静电喷雾技术的研究现状 | 第12-14页 |
| ·纳米薄膜的制备 | 第12-13页 |
| ·壳-芯结构 | 第13-14页 |
| ·微米球及量子点 | 第14页 |
| ·压电化学传感器的研究现状 | 第14-16页 |
| ·石英晶体微天平传感器 | 第15页 |
| ·声表面波传感器 | 第15-16页 |
| ·本文研究的主要内容及意义 | 第16-19页 |
| ·本课题的研究意义 | 第16-17页 |
| ·研究内容 | 第17-19页 |
| 第二章 静电喷雾技术的理论研究 | 第19-29页 |
| ·静电喷雾基础理论 | 第19-21页 |
| ·液滴荷电机理 | 第19-20页 |
| ·液滴破碎机理 | 第20-21页 |
| ·静电喷雾过程 | 第21-23页 |
| ·射流区 | 第21-22页 |
| ·波纹区 | 第22-23页 |
| ·雾滴区 | 第23页 |
| ·静电喷雾锥形射流分析 | 第23-27页 |
| ·射流电流的计算 | 第24页 |
| ·液滴大小的计算 | 第24-25页 |
| ·液滴的挥发 | 第25-26页 |
| ·液滴位置的确定 | 第26页 |
| ·沉积薄膜 | 第26-27页 |
| ·控制电喷的影响因素 | 第27-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 静电喷雾法制备PVDF 薄膜 | 第29-51页 |
| ·静电喷雾装置的搭建 | 第29-30页 |
| ·实验用材料及仪器 | 第30-31页 |
| ·硅片上沉积薄膜 | 第31-41页 |
| ·硅片的清洗 | 第31页 |
| ·实验结果与分析 | 第31-41页 |
| ·溶液浓度对PVDF 薄膜形貌的影响 | 第31-35页 |
| ·施加电压对PVDF 薄膜形貌的影响 | 第35-38页 |
| ·接收距离对PVDF 薄膜形貌的影响 | 第38-39页 |
| ·时间对PVDF 薄膜形貌的影响 | 第39-41页 |
| ·声表面波器件上沉积薄膜实验 | 第41-49页 |
| ·溶液浓度对声表面波器件性能的影响 | 第41-43页 |
| ·施加电压对声表面波器件性能的影响 | 第43-46页 |
| ·接收距离对声表面波器件性能的影响 | 第46-47页 |
| ·流速对声表面波器件性能的影响（流动性） | 第47-49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 第四章 PVDF-QCM 传感器的敏感特性研究 | 第51-58页 |
| ·实验药品及装置 | 第51-52页 |
| ·实验测试仪器及试剂 | 第51页 |
| ·实验装置 | 第51-52页 |
| ·QCM 传感器测试实验 | 第52-57页 |
| ·电喷PVDF-QCM 传感器性能 | 第52-55页 |
| ·电喷PVDF-QCM 传感器与滴涂PVDF-QCM 传感器性能对比 | 第55-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章 结论与展望 | 第58-60页 |
| ·结论 | 第58页 |
| ·展望 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 攻硕期间取得的成果 | 第66-67页 |