| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 课题意义 | 第11-12页 |
| 1.2 锁模掺铒光纤激光器的研究进展和主要应用 | 第12-17页 |
| 1.2.1 掺铒光纤激光器的研究进展 | 第13-14页 |
| 1.2.2 掺铒光纤激光器的分类和发展情况 | 第14-16页 |
| 1.2.3 掺铒光纤激光器锁模的理论解析 | 第16-17页 |
| 1.3 激光器锁模方式的发展及性能分析 | 第17-23页 |
| 1.3.1 非线性光纤环形镜技术 | 第17页 |
| 1.3.2 非线性偏振旋转技术 | 第17-18页 |
| 1.3.3 半导体可饱和吸收镜技术 | 第18-20页 |
| 1.3.4 碳纳米管/石墨烯技术 | 第20-22页 |
| 1.3.5 拓扑绝缘体技术 | 第22-23页 |
| 1.4 论文结构安排 | 第23-25页 |
| 第2章 被动锁模掺铒光纤激光器的理论模型 | 第25-36页 |
| 2.1 孤子脉冲的形成条件 | 第25-30页 |
| 2.1.1 光纤中的非线性光学效应 | 第25-28页 |
| 2.1.2 色散和模式双折射 | 第28-29页 |
| 2.1.3 掺铒光纤中的增益和增益色散特性 | 第29-30页 |
| 2.2 锁模掺铒光纤激光器的理论模型 | 第30-34页 |
| 2.2.1 被动锁模光纤激光器中的脉冲传输方程 | 第30-32页 |
| 2.2.2 数值模拟法的基本理论 | 第32-34页 |
| 2.3 耗散孤子的物理机制 | 第34-35页 |
| 2.4 小结 | 第35-36页 |
| 第3章 理论研究正色散腔中调制深度对输出孤子脉冲的影响 | 第36-46页 |
| 3.1 引言 | 第36-37页 |
| 3.2 饱和吸收体与调制深度的关系 | 第37-40页 |
| 3.3 频谱滤波器和三阶色散对输出耗散孤子的影响 | 第40-41页 |
| 3.3.1 频谱滤波器对输出脉冲的影响 | 第40-41页 |
| 3.3.2 三阶色散对输出脉冲的影响 | 第41页 |
| 3.4 调制深度对输出孤子脉冲的影响 | 第41-45页 |
| 3.4.1 高调制深度下光纤激光器的稳定状态 | 第43页 |
| 3.4.2 调制深度对泵浦阈值、单脉冲能量、脉冲宽度和频谱宽度的影响 | 第43-45页 |
| 3.5 小结 | 第45-46页 |
| 第4章 色散和调制深度对负色散光纤激光器的输出孤子的理论研究 | 第46-54页 |
| 4.1 引言 | 第46页 |
| 4.2 色散和调制深度对输出脉冲的影响 | 第46-53页 |
| 4.2.1 色散对孤子脉冲的影响 | 第47-48页 |
| 4.2.2 多孤子的产生 | 第48-51页 |
| 4.2.3 高调制深度对负色散腔输出脉冲的影响 | 第51-53页 |
| 4.3 小结 | 第53-54页 |
| 结论 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文 | 第63-64页 |
| 附录B 攻读学位期间参加的科研项目 | 第64页 |
