| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-32页 |
| 1.1 TiO_2简介 | 第12-14页 |
| 1.2 TiO_2薄膜在太阳能电池中的应用 | 第14-19页 |
| 1.2.1 TiO_2薄膜在染料敏化太阳能电池中的应用 | 第16-17页 |
| 1.2.2 TiO_2薄膜在钙钛矿太阳能电池中的应用 | 第17-19页 |
| 1.3 TiO_2薄膜的制备方法 | 第19-22页 |
| 1.3.1 化学液相沉积法 | 第19-20页 |
| 1.3.2 化学气相沉积法 | 第20-21页 |
| 1.3.3 物理气相沉积法 | 第21-22页 |
| 1.4 Anatase相TiO_2及Anatase相(001)织构的研究现状 | 第22-24页 |
| 1.5 TiO_2薄膜的掺杂改性 | 第24-28页 |
| 1.5.1 金属掺杂 | 第25页 |
| 1.5.2 非金属掺杂 | 第25-28页 |
| 1.6 N-TiO_2薄膜的制备方法 | 第28-29页 |
| 1.6.1 其它N掺杂方法 | 第28-29页 |
| 1.6.2 N离子束注入法 | 第29页 |
| 1.7 论文的研究目的与研究内容 | 第29-32页 |
| 第二章 TiO_2薄膜及N-TiO_2薄膜的制备与表征 | 第32-42页 |
| 2.1 直流脉冲磁控溅射系统 | 第32-37页 |
| 2.1.1 磁控溅射系统介绍 | 第32-34页 |
| 2.1.2 脉冲电源和离子源介绍 | 第34-37页 |
| 2.2 薄膜的制备及处理 | 第37-39页 |
| 2.2.1 直流脉冲磁控溅射法制备TiO_2薄膜 | 第37-38页 |
| 2.2.2 对TiO_2薄膜进行退火晶化处理 | 第38页 |
| 2.2.3 N-TiO_2薄膜的制备 | 第38-39页 |
| 2.3 薄膜样品的表征 | 第39-42页 |
| 2.3.1 薄膜厚度测试 | 第39页 |
| 2.3.2 薄膜晶体结构测试 | 第39-40页 |
| 2.3.3 薄膜表面成分测试 | 第40页 |
| 2.3.4 薄膜光学性能测试 | 第40-41页 |
| 2.3.5 薄膜电学性能测试 | 第41-42页 |
| 第三章 沉积态TiO_2薄膜结晶影响因素的研究 | 第42-58页 |
| 3.1 引言 | 第42页 |
| 3.2 TiO_2薄膜沉积速率分析 | 第42-44页 |
| 3.3 沉积态TiO_2薄膜结晶性分析 | 第44-48页 |
| 3.4 沉积态TiO_2薄膜电学性能分析 | 第48页 |
| 3.5 沉积态TiO_2薄膜结晶影响因素分析 | 第48-55页 |
| 3.5.1 基片温度对TiO_2薄膜结晶的影响 | 第49-51页 |
| 3.5.2 溅射粒子能量对TiO_2薄膜结晶的影响 | 第51-52页 |
| 3.5.3 TiO_2薄膜结晶的影响因素 | 第52-55页 |
| 3.6 在PI材料上沉积TiO_2薄膜 | 第55-56页 |
| 本章小结 | 第56-58页 |
| 第四章 A(001)织构对TiO_2薄膜性能影响的研究 | 第58-72页 |
| 4.1 引言 | 第58页 |
| 4.2 退火后TiO_2薄膜晶体结构分析 | 第58-66页 |
| 4.3 退火后TiO_2薄膜电学性能分析 | 第66-67页 |
| 4.4 A(001)薄膜织构形成分析 | 第67-69页 |
| 4.5 A(001)薄膜织构的高效制备方法 | 第69-70页 |
| 本章小结 | 第70-72页 |
| 第五章 TiO_2薄膜结晶程度对N掺杂影响的研究 | 第72-86页 |
| 5.1 引言 | 第72页 |
| 5.2 N离子注入/扩散过程对基片温度的影响 | 第72-73页 |
| 5.3 N离子注入/扩散过程对TiO_2薄膜结晶性的影响 | 第73-75页 |
| 5.4 N离子注入/扩散过程对TiO_2薄膜电学性能的影响 | 第75-76页 |
| 5.5 N-TiO_2薄膜中N的化学键结构分析 | 第76-80页 |
| 5.6 薄膜光学性能分析 | 第80-83页 |
| 5.7 对PI材料上沉积的Ti02薄膜进行N掺杂 | 第83-85页 |
| 本章小结 | 第85-86页 |
| 第六章 N掺杂的有效途径的研究 | 第86-95页 |
| 6.1 引言 | 第86页 |
| 6.2 薄膜晶体结构分析 | 第86-89页 |
| 6.3 N-TiO_2薄膜中N的化学键结构分析 | 第89-92页 |
| 6.4 薄膜光学性能分析 | 第92-93页 |
| 本章小结 | 第93-95页 |
| 第七章 A(001)薄膜织构对N掺杂效率影响的研究 | 第95-106页 |
| 7.1 引言 | 第95页 |
| 7.2 N离子注入/扩散过程对TiO_2薄膜晶体结构的影响 | 第95-97页 |
| 7.3 N离子注入/扩散过程对TiO_2薄膜电学性能的影响 | 第97-98页 |
| 7.4 N-TiO_2薄膜中N的化学键结构分析 | 第98-100页 |
| 7.5 A(001)薄膜织构对N掺杂效率的影响 | 第100-105页 |
| 本章小结 | 第105-106页 |
| 结论与展望 | 第106-109页 |
| 创新点摘要 | 第109-110页 |
| 参考文献 | 第110-120页 |
| 附录1 | 第120-122页 |
| 附录2 | 第122-124页 |
| 攻读博士学位期间的学术成果 | 第124-126页 |
| 攻读博士学位期间的获奖情况 | 第126-127页 |
| 致谢 | 第127-128页 |
