| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 1 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 引言 | 第8页 |
| 1.2 磁致伸缩材料概述 | 第8-11页 |
| 1.2.1 磁致伸缩效应 | 第8-9页 |
| 1.2.2 磁致伸缩材料的发展 | 第9页 |
| 1.2.3 磁致伸缩材料的分类 | 第9-10页 |
| 1.2.4 磁致伸缩材料的特性 | 第10-11页 |
| 1.2.5 磁致伸缩材料的应用 | 第11页 |
| 1.3 Fe-Ga薄膜的应用前景 | 第11-12页 |
| 1.4 Fe-Ga薄膜的研究现状 | 第12-15页 |
| 1.4.1 基础研究 | 第12-14页 |
| 1.4.2 实际应用 | 第14-15页 |
| 1.5 论文的研究意义及内容 | 第15-16页 |
| 1.5.1 论文的研究意义 | 第15页 |
| 1.5.2 论文的研究内容 | 第15-16页 |
| 2 Fe-Ga薄膜的制备和性能表征方法 | 第16-23页 |
| 2.1 薄膜制备方法—磁控溅射 | 第16-18页 |
| 2.2 Fe-Ga薄膜样品的表征方法 | 第18-20页 |
| 2.2.1 样品形貌的表征方法 | 第18-19页 |
| 2.2.2 样品晶体结构的表征方法 | 第19页 |
| 2.2.3 样品磁性的表征方法 | 第19-20页 |
| 2.3 射频磁控溅射制备Fe_(81)Ga_(19)薄膜 | 第20-22页 |
| 2.3.1 射频磁控溅射设备的介绍 | 第20页 |
| 2.3.2 射频磁控溅射的方法及流程 | 第20页 |
| 2.3.3 实验方案及薄膜的制备 | 第20-22页 |
| 2.4 小结 | 第22-23页 |
| 3 不同工艺制备的Fe_(81)Ga_(19)薄膜的微结构 | 第23-41页 |
| 3.1 引言 | 第23-24页 |
| 3.2 Fe_(81)Ga_(19)薄膜的原子力显微镜(AFM)表征结果与分析 | 第24-33页 |
| 3.2.1 不同厚度Fe_(81)Ga_(19)薄膜的AFM表征结果及分析 | 第25-29页 |
| 3.2.2 不同衬底取向Fe_(81)Ga_(19)薄膜的AFM表征结果与分析 | 第29-31页 |
| 3.2.3 不同衬底Fe_(81)Ga_(19)薄膜的AFM表征结果与分析 | 第31-33页 |
| 3.3 Fe_(81)Ga_(19)薄膜的高分辨X射线衍射(HRXRD)表征结果与分析 | 第33-40页 |
| 3.3.1 不同厚度Fe_(81)Ga_(19)薄膜的HRXRD表征结果与分析 | 第34-36页 |
| 3.3.2 不同衬底取向Fe_(81)Ga_(19)薄膜的HRXRD表征结果与分析 | 第36-37页 |
| 3.3.3 不同衬底Fe_(81)Ga_(19)薄膜的HRXRD表征结果与分析 | 第37-39页 |
| 3.3.4 不同制备工艺的Fe_(81)Ga_(19)薄膜的晶粒尺寸 | 第39-40页 |
| 3.4 本章小结 | 第40-41页 |
| 4 不同工艺制备的Fe_(81)Ga_(19)薄膜的磁性能 | 第41-49页 |
| 4.1 引言 | 第41-42页 |
| 4.2 Fe_(81)Ga_(19)薄膜的振动样品磁强计(VSM)表征结果与分析 | 第42-48页 |
| 4.2.1 不同厚度Fe_(81)Ga_(19)薄膜的VSM表征结果与分析 | 第42-46页 |
| 4.2.2 不同衬底取向Fe_(81)Ga_(19)薄膜的VSM表征结果与分析 | 第46-47页 |
| 4.2.3 不同衬底Fe_(81)Ga_(19)薄膜的VSM表征结果与分析 | 第47-48页 |
| 4.3 本章小结 | 第48-49页 |
| 5 总结与展望 | 第49-51页 |
| 5.1 结论 | 第49-50页 |
| 5.2 不足与展望 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-58页 |
| 附录 | 第58页 |
