摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5页 |
第一章 绪论 | 第8-17页 |
1.1 KCl_(1-x)Br_x晶体应用 | 第8-9页 |
1.2 KCl_(1-x)Br_x晶体结构 | 第9-10页 |
1.3 形成KCl_(1-x)Br_x晶体的基础条件 | 第10-11页 |
1.4 常用的晶体生长方法 | 第11页 |
1.5 提拉法生长KCl_(1-x)Br_x晶体 | 第11-15页 |
1.5.1 提拉法生长KCl_(1-x)Br_x晶体的原理 | 第11-12页 |
1.5.2 提拉法生长KCl_(1-x)Br_x晶体的特点 | 第12页 |
1.5.3 KCl_(1-x)Br_x晶体的国内外研究现状 | 第12-15页 |
1.6 本实验的研究目的和研究内容 | 第15-17页 |
1.6.1 研究目的 | 第15页 |
1.6.2 研究内容 | 第15-16页 |
1.6.3 技术路线 | 第16-17页 |
第二章 KCl_(1-x)Br_x原料制备与表征 | 第17-23页 |
2.1 原料选择处理 | 第17-20页 |
2.2 KCl_(1-x)Br_x原料组分设计 | 第20-21页 |
2.3 KCl_(1-x)Br_x原料成型工艺 | 第21-22页 |
2.4 本章小结 | 第22-23页 |
第三章 KCl_(1-x)Br_x晶体生长技术 | 第23-38页 |
3.1 KCl_(1-x)Br_x晶体生长炉温场设计控制理论分析 | 第23-26页 |
3.1.1 混合传输动力学 | 第23-24页 |
3.1.2 KCl_(1-x)Br_x晶体温场设计 | 第24-26页 |
3.2 KCl_(1-x)Br_x晶体生长工艺参数的确定 | 第26-30页 |
3.3 KCl_(1-x)Br_x晶体生长的主要设备 | 第30-32页 |
3.4 KCl_(1-x)Br_x晶体生长工艺 | 第32-35页 |
3.5 KCl_(1-x)Br_x晶体的退火 | 第35-36页 |
3.6 KCl_(1-x)Br_x晶体的加工 | 第36-37页 |
3.7 本章小结 | 第37-38页 |
第四章 KCl_(1-x)Br_x晶体性能分析 | 第38-55页 |
4.1 KCl_(1-x)Br_x晶体XRD分析 | 第38-41页 |
4.2 KCl_(1-x)Br_x晶体EDX能谱分析 | 第41-43页 |
4.3 KCl_(1-x)Br_x晶体光学性能分析 | 第43-44页 |
4.4 KCl_(1-x)Br_x晶体热学性能分析 | 第44-46页 |
4.5 KCl_(1-x)Br_x晶体电学性能分析 | 第46-52页 |
4.6 KCl_(1-x)Br_x晶体硬度分析 | 第52-53页 |
4.7 本章小结 | 第53-55页 |
第五章 结论 | 第55-57页 |
致谢 | 第57-58页 |
参考文献 | 第58-61页 |
研究生期间学术成果 | 第61页 |