| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 引言 | 第8-9页 |
| 1. ZnO的材料特性 | 第9-17页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第9-10页 |
| ·ZnO的光学性质 | 第10-11页 |
| ·ZnO电学性质 | 第11页 |
| ·ZnO的其他性质及应用 | 第11-12页 |
| ·ZnO的压电特性 | 第11页 |
| ·ZnO的压敏特性 | 第11-12页 |
| ·ZnO的稀磁特性 | 第12页 |
| ·纳米ZnO的应用 | 第12页 |
| ·薄膜制备技术概论 | 第12-17页 |
| ·脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition,PLD) | 第12-13页 |
| ·分子束外延(MBE) | 第13-14页 |
| ·金属有机化学气相沉积(MOCVD) | 第14-15页 |
| ·磁控溅射法(Magnetron Sputtering) | 第15页 |
| ·溶胶-凝胶法(Sol-Gel) | 第15页 |
| ·喷涂热分解法(Spray Pyrolysis) | 第15-16页 |
| ·电子束反应蒸镀法(Reactive Electron Beam Evaporation) | 第16页 |
| ·水热法(Hydrothermal Synthesis) | 第16-17页 |
| 2 ZnO薄膜的制备方法及分析方法 | 第17-29页 |
| ·反应磁控溅射法制备ZnO种子层 | 第17-19页 |
| ·反应磁控溅射的基本原理 | 第17-19页 |
| ·磁控溅射设备简介 | 第19页 |
| ·脉冲激光沉积制备ZnO种子层 | 第19-22页 |
| ·脉冲激光沉积的基本原理 | 第19-21页 |
| ·实验设备简介 | 第21-22页 |
| ·水溶液法制备ZnO薄膜 | 第22-23页 |
| ·水溶液法生长ZnO的原理 | 第22页 |
| ·水溶液法的实验条件 | 第22-23页 |
| ·ZnO薄膜的表征方法 | 第23-29页 |
| ·X射线衍射技术(XRD) | 第23-24页 |
| ·光致发光光谱(PL) | 第24-25页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第25-26页 |
| ·透射光谱 | 第26-29页 |
| 3 ZnO薄膜的水溶液制备与分析 | 第29-48页 |
| ·磁控溅射制备ZnO种子层对ZnO薄膜的影响 | 第29-38页 |
| ·实验部分 | 第29-30页 |
| (1) 实验试剂 | 第29页 |
| (2) 实验方案设计 | 第29-30页 |
| ·结果与讨论 | 第30-38页 |
| ·脉冲激光沉积ZnO种子层对ZnO薄膜的影响 | 第38-47页 |
| ·实验部分 | 第38-39页 |
| ·结果与讨论 | 第39-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 4 添加剂对ZnO薄膜生长的影响 | 第48-59页 |
| ·Li~+对ZnO薄膜生长的影响 | 第48-50页 |
| ·实验方案设计 | 第48页 |
| ·ZnO薄膜的制备 | 第48页 |
| ·ZnO薄膜的表征与分析 | 第48-50页 |
| ·柠檬酸钠对ZnO薄膜生长的影响 | 第50-58页 |
| ·实验方案设计 | 第51页 |
| ·ZnO薄膜的制备 | 第51页 |
| ·ZnO薄膜的表征和分析 | 第51-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-66页 |
