| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-30页 |
| 1.1 引言 | 第12-13页 |
| 1.2 锂离子电池简介 | 第13-15页 |
| 1.3 锂离子电池负极材料的嵌锂机制 | 第15-16页 |
| 1.4 锂离子电池负极材料的研究现状 | 第16-22页 |
| 1.4.1 碳类负极材料 | 第17-18页 |
| 1.4.2 锑基负极材料 | 第18-19页 |
| 1.4.3 锡基负极材料 | 第19-20页 |
| 1.4.4 过渡金属氧化物负极材料 | 第20-22页 |
| 1.4.5 TiO_2负极材料 | 第22页 |
| 1.5 三维纳米结构电极 | 第22-28页 |
| 1.5.1 三维纳米结构电极简介 | 第22-25页 |
| 1.5.2 三维纳米电极的制备方法研究现状 | 第25-28页 |
| 1.6 本课题选题意义及研究内容 | 第28-30页 |
| 第二章 实验部分 | 第30-36页 |
| 2.1 材料制备 | 第30-31页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第30-31页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第31页 |
| 2.2 材料物理表征 | 第31-33页 |
| 2.2.1 X射线衍射分析 | 第31-32页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜 | 第32页 |
| 2.2.3 透射电子显微镜 | 第32-33页 |
| 2.3 电化学性能测试 | 第33-36页 |
| 2.3.1 研究电极的制备与电池的组装 | 第33-34页 |
| 2.3.2 循环充放电测试 | 第34页 |
| 2.3.3 变电流密度性能测试 | 第34-35页 |
| 2.3.4 循环伏安法 | 第35-36页 |
| 第三章 铜纳米线阵列集流体的制备与表征 | 第36-44页 |
| 3.1 铜纳米线阵列的制备 | 第36-37页 |
| 3.2 AAO模板对铜纳米线阵列的影响 | 第37-39页 |
| 3.3 电沉积参数对铜纳米线阵列的影响 | 第39-43页 |
| 3.3.1 沉积电流密度对纳米线阵列生长的影响 | 第39-40页 |
| 3.3.2 沉积时间对铜纳米线阵列生长的影响 | 第40-43页 |
| 3.3.3 其他因素对铜纳米线阵列生长的影响 | 第43页 |
| 3.4 本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 三维Cu@Fe_3O_4纳米线阵列复合电极的制备和性能探索 | 第44-58页 |
| 4.1 三维Cu@Fe_3O_4纳米线阵列电极材料的制备 | 第44页 |
| 4.2 三维Cu@Fe_3O_4纳米线阵列电极材料的制备条件的探究 | 第44-48页 |
| 4.2.1 不同溶液体系对材料制备的影响 | 第44-46页 |
| 4.2.2 电沉积时间对材料制备的影响 | 第46-47页 |
| 4.2.3 电沉积电压对材料制备的影响 | 第47-48页 |
| 4.3 三维Cu@Fe_3O_4纳米线阵列电极材料的物理表征 | 第48-50页 |
| 4.3.1 XRD分析表征 | 第48-49页 |
| 4.3.2 TEM分析表征 | 第49-50页 |
| 4.4 三维Cu@Fe_3O_4纳米线阵列电极材料电化学性能的表征 | 第50-55页 |
| 4.4.1 CV曲线 | 第50-51页 |
| 4.4.2 充放电曲线 | 第51-53页 |
| 4.4.3 单一电流密度下的容量曲线 | 第53-54页 |
| 4.4.4 变电流密度下的容量曲线 | 第54-55页 |
| 4.4.5 电极循环后形貌表征 | 第55页 |
| 4.5 本章小结 | 第55-58页 |
| 第五章 三维Cu@SnSb纳米线阵列复合电极的制备和性能探索 | 第58-66页 |
| 5.1 三维Cu@SnSb纳米线阵列的制备 | 第58页 |
| 5.2 电沉积时间对三维Cu@SnSb纳米线阵列制备的影响 | 第58-59页 |
| 5.3 三维Cu@SnSb纳米线阵列电极材料的表征 | 第59-61页 |
| 5.3.1 XRD分析表征 | 第59-60页 |
| 5.3.2 TEM分析表征 | 第60-61页 |
| 5.4 三维Cu@SnSb纳米线阵列电极材料电化学性能测试 | 第61-65页 |
| 5.4.1 CV曲线 | 第61-62页 |
| 5.4.2 充放电曲线 | 第62-63页 |
| 5.4.3 单一电流密度下的容量曲线 | 第63-64页 |
| 5.4.4 电极材料循环后的形貌 | 第64-65页 |
| 5.5 本章小结 | 第65-66页 |
| 第六章 三维Cu@SnSbCo纳米线阵列复合电极的制备和性能探索 | 第66-74页 |
| 6.1 三维Cu@SnSbCo纳米线阵列电极材料的制备 | 第66页 |
| 6.2 热处理对三维Cu@SnSbCo纳米线阵列电极材料形貌的影响 | 第66-67页 |
| 6.3 三维Cu@SnSbCo纳米线阵列电极材料的物理表征 | 第67-69页 |
| 6.3.1 XRD分析表征 | 第67-68页 |
| 6.3.2 TEM分析表征 | 第68-69页 |
| 6.4 三维Cu@SnSbCo纳米线阵列电极材料的电化学性能表征 | 第69-72页 |
| 6.4.1 充放电曲线 | 第69-70页 |
| 6.4.2 单一电流密度下的容量曲线 | 第70-71页 |
| 6.4.3 电极循环后的形貌表征 | 第71-72页 |
| 6.5 本章小结 | 第72-74页 |
| 第七章 结论 | 第74-76页 |
| 致谢 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-84页 |
| 附录 A-攻读硕士学位期间取得的学术成果 | 第84页 |
