| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第11-22页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 激光致盲防护技术及其发展 | 第11-15页 |
| 1.2.1 激光致盲防护技术 | 第11-12页 |
| 1.2.2 激光致盲防护技术的分类及研究现状 | 第12-15页 |
| 1.2.3 激光致盲防护发展 | 第15页 |
| 1.3 氧化钒薄膜制备技术及应用 | 第15-18页 |
| 1.3.1 氧化钒薄膜制备技术 | 第15-17页 |
| 1.3.2 氧化钒薄膜应用 | 第17-18页 |
| 1.4 金刚石的光学性能与红外窗口应用 | 第18-20页 |
| 1.4.1 光学性能 | 第18-20页 |
| 1.4.2 金刚石红外窗口应用 | 第20页 |
| 1.5 研究意义和研究内容 | 第20-22页 |
| 1.5.1 本课题研究的意义 | 第20-21页 |
| 1.5.2 本课题研究的内容 | 第21-22页 |
| 第二章 氧化钒相变特性及V_2O_5/金刚石膜系结构设计 | 第22-37页 |
| 2.1 V_2O_5的性质和相变特性 | 第22-24页 |
| 2.1.1 V_2O_5薄膜的晶体结构及性质 | 第22-23页 |
| 2.1.2 V_2O_5薄膜相变特性 | 第23-24页 |
| 2.2 膜系厚度理论设计及最佳膜厚设计 | 第24-28页 |
| 2.2.1 氧化钒薄膜厚度理论计算 | 第24-26页 |
| 2.2.2 V_2O_5膜层最佳厚度设计 | 第26-28页 |
| 2.3 TFCalc多层膜系结构设计与优化 | 第28-35页 |
| 2.3.1 膜系设计要求 | 第29页 |
| 2.3.2 基底及膜料选择 | 第29-32页 |
| 2.3.3 膜系设计及TFCalc优化 | 第32-35页 |
| 2.3.4 V_2O_5薄膜抗激光致盲设计 | 第35页 |
| 2.4 本章小结 | 第35-37页 |
| 第三章 磁控溅射制备五氧化二钒薄膜工艺研究 | 第37-56页 |
| 3.1 引言 | 第37页 |
| 3.2 镀膜机和射频磁控溅射原理 | 第37-40页 |
| 3.3 沉积速率的计算及膜厚控制 | 第40-42页 |
| 3.4 蓝宝石基片上氧化钒薄膜的制备研究 | 第42-50页 |
| 3.4.1 实验 | 第42-43页 |
| 3.4.2 薄膜的XRD分析 | 第43-46页 |
| 3.4.3 薄膜AFM及表面粗糙度分析 | 第46-49页 |
| 3.4.4 薄膜SEM检测及能谱分析 | 第49-50页 |
| 3.5 石英基片上氧化钒薄膜的制备研究 | 第50-54页 |
| 3.5.1 实验 | 第50-51页 |
| 3.5.2 实验结果与讨论 | 第51-54页 |
| 3.6 V_2O_5薄膜制备工艺探索 | 第54-55页 |
| 3.7 本章小结 | 第55-56页 |
| 第四章 V_2O_5/金刚石膜系制备及相变特性研究 | 第56-66页 |
| 4.1 引言 | 第56页 |
| 4.2 V_2O_5/金刚石膜系实验制备 | 第56-60页 |
| 4.2.1 金刚石基片预处理 | 第56页 |
| 4.2.2 实验 | 第56-57页 |
| 4.2.3 薄膜厚度的均匀性分析 | 第57-58页 |
| 4.2.4 薄膜XRD分析 | 第58-59页 |
| 4.2.5 薄膜AFM及表面粗糙度分析 | 第59-60页 |
| 4.3 V_2O_5薄膜光电特性研究 | 第60-65页 |
| 4.3.1 薄膜电学特性测试 | 第60-63页 |
| 4.3.2 薄膜红外光学相变特性测试 | 第63页 |
| 4.3.3 V_2O_5薄膜激光致盲防护应用研究 | 第63-65页 |
| 4.4 本章小结 | 第65-66页 |
| 第五章 总结与展望 | 第66-68页 |
| 5.1 总结 | 第66-67页 |
| 5.2 展望 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第75页 |
| 1. 攻读硕士学位期间发表（录用）论文情况 | 第75页 |
| 2. 攻读硕士学位期间申请专利 | 第75页 |
| 3. 攻读硕士学位期间参加项目 | 第75页 |