| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第12-17页 |
| 1.1 本课题的研究背景 | 第12-13页 |
| 1.2 光刻成像技术分类 | 第13-16页 |
| 1.2.1 有掩模光刻 | 第13-16页 |
| 1.2.2 无掩模光刻 | 第16页 |
| 1.3 课题来源和本文内容梗概 | 第16-17页 |
| 第二章 无掩模光刻系统 | 第17-26页 |
| 2.1 成像器件 | 第17-21页 |
| 2.1.1 DMD结构和成像原理 | 第17页 |
| 2.1.2 阈值成像和灰度成像 | 第17-21页 |
| 2.2 照明系统 | 第21-23页 |
| 2.3 成像投影系统 | 第23-24页 |
| 2.4 X-Y方向平台 | 第24页 |
| 2.5 本章小结 | 第24-26页 |
| 第三章 部分相干照明系统 | 第26-46页 |
| 3.1 部分相干光 | 第26-28页 |
| 3.1.1 部分相干光定义 | 第26-27页 |
| 3.1.2 部分相干光调制器 | 第27-28页 |
| 3.2 部分相干成像的解析描述 | 第28-31页 |
| 3.2.1 霍普金标量模型(Hopkins’scalarmethod) | 第28-29页 |
| 3.2.2 阿贝标量模型(Abbe’sscalarmethod) | 第29页 |
| 3.2.3 阈值模型 | 第29-31页 |
| 3.3 标量部分相干光成像模型的近似离散描述 | 第31-35页 |
| 3.3.1 霍普金模型的离散描述 | 第31-32页 |
| 3.3.2 阿贝标量模型 | 第32-35页 |
| 3.4 基于霍普金模型的相位相干因子计算 | 第35-41页 |
| 3.5 考虑公差的部分相干成像 | 第41-42页 |
| 3.6 加速计算方法 | 第42-44页 |
| 3.7 本章小结 | 第44-46页 |
| 第四章 利用部分相干光源抑制DMD光刻中栅格效应 | 第46-54页 |
| 4.1 投影像中的栅格效应 | 第46页 |
| 4.2 解决方法 | 第46-47页 |
| 4.3 仿真结果 | 第47-51页 |
| 4.4 讨论 | 第51-52页 |
| 4.5 本章小结 | 第52-54页 |
| 总结与展望 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-59页 |
| 攻读硕士期间发表论文 | 第59-61页 |
| 致谢 | 第61页 |