| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 研究背景 | 第9-11页 |
| 1.2 熔融盐电镀技术 | 第11-14页 |
| 1.2.1 熔融盐体系电镀铝 | 第11-12页 |
| 1.2.2 熔融盐电镀铝的反应机理 | 第12-13页 |
| 1.2.3 稀土铝合金的研究进展 | 第13-14页 |
| 1.3 微弧氧化技术 | 第14-15页 |
| 1.3.1 微弧氧化工艺机理 | 第14页 |
| 1.3.2 铝合金微弧氧化的研究现状及展望 | 第14-15页 |
| 1.4 本论文的主要研究内容 | 第15-17页 |
| 第2章 实验部分 | 第17-26页 |
| 2.1 实验装置 | 第17-18页 |
| 2.1.1 实验仪器 | 第17页 |
| 2.1.2 熔融盐电镀实验装置 | 第17-18页 |
| 2.1.3 微弧氧化实验装置 | 第18页 |
| 2.2 实验材料 | 第18-19页 |
| 2.2.1 熔盐电镀实验材料 | 第18-19页 |
| 2.2.2 微弧氧化实验材料 | 第19页 |
| 2.3 熔盐电镀前的预处理 | 第19-21页 |
| 2.3.1 阳极材料的前处理 | 第19页 |
| 2.3.2 阴极材料的前处理 | 第19-20页 |
| 2.3.3 熔融盐体系的电沉积前处理 | 第20-21页 |
| 2.4 熔融盐电镀 | 第21-22页 |
| 2.4.1 电镀工艺参数 | 第21页 |
| 2.4.2 熔融盐电镀工艺流程 | 第21-22页 |
| 2.5 微弧氧化膜的制备 | 第22-23页 |
| 2.5.1 微弧氧化膜的制备工艺 | 第22页 |
| 2.5.2 微弧氧化电解液配方 | 第22-23页 |
| 2.6 性能测试 | 第23-26页 |
| 2.6.1 镀层及膜层表面形貌及成分的测定 | 第23页 |
| 2.6.2 镀层及膜层的组织结构的测定 | 第23-24页 |
| 2.6.3 镀层及膜层的厚度的测定 | 第24页 |
| 2.6.4 镀层及膜层的硬度的测定 | 第24页 |
| 2.6.5 镀层及膜层耐蚀性的测定 | 第24-26页 |
| 第3章 Al-Nd合金镀层的结构与性能研究 | 第26-35页 |
| 3.1 Al-Nd合金镀层的微观形貌及成分分析 | 第26-29页 |
| 3.2 Al-Nd合金镀层的相结构 | 第29-30页 |
| 3.3 Al-Nd合金镀层耐蚀性的研究 | 第30-32页 |
| 3.3.1 镀层的Tafel曲线分析 | 第31-32页 |
| 3.3.2 镀层的阳极极化曲线分析 | 第32页 |
| 3.4 Al-Nd合金镀层的硬度和厚度分析 | 第32-33页 |
| 3.5 本章小节 | 第33-35页 |
| 第4章 Al-Nd合金镀层微弧氧化膜的结构与性能研究 | 第35-56页 |
| 4.1 Al-Nd合金镀层中Nd含量对微弧氧化膜性能的影响 | 第35-41页 |
| 4.1.1 Al-Nd合金镀层微弧氧化膜的微观形貌 | 第35-36页 |
| 4.1.2 Al-Nd合金镀层微弧氧化膜的相结构 | 第36-38页 |
| 4.1.3 Nd含量对微弧氧化膜耐蚀性的影响 | 第38-40页 |
| 4.1.4 Nd含量对微弧氧化膜厚度和硬度的影响 | 第40-41页 |
| 4.2 各盐浓度对Al-Nd合金镀层微弧氧化膜性能的影响 | 第41-49页 |
| 4.2.1 Na2Si O3浓度对微弧氧化膜性能的影响 | 第42-45页 |
| 4.2.2 Na OH浓度对微弧氧化膜性能的影响 | 第45-49页 |
| 4.3 添加剂对微弧氧化膜性能的影响 | 第49-54页 |
| 4.3.1 添加剂对微弧氧化膜微观形貌的影响 | 第49-51页 |
| 4.3.2 添加剂对微弧氧化膜耐蚀性的影响 | 第51-54页 |
| 4.4 本章小结 | 第54-56页 |
| 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-63页 |
| 攻读硕士学位期间承担的科研任务和主要成果 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 作者简介 | 第65页 |
