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能量过滤磁控溅射技术ITO薄膜的制备及性能优化

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
1 绪论第11-31页
    1.1 引言第11-12页
    1.2 ITO薄膜国内外研究现状第12-13页
    1.3 ITO薄膜的应用第13-14页
    1.4 ITO薄膜的透明导电机理第14-18页
        1.4.1 ITO薄膜的电学性能第15-17页
        1.4.2 ITO薄膜的光学性能第17-18页
    1.5 ITO薄膜的制备方法第18-23页
        1.5.1 溶胶-凝胶法第18-19页
        1.5.2 化学气相沉积法第19-20页
        1.5.3 喷雾热解法第20页
        1.5.4 脉冲激光沉积法第20-21页
        1.5.5 真空蒸发法第21-22页
        1.5.6 磁控溅射法第22-23页
    1.6 ITO薄膜的表征手段第23-29页
        1.6.1 物相与结构的表征第23-24页
        1.6.2 形貌的表征第24-25页
        1.6.3 电学性能的表征第25-26页
        1.6.4 光学性能的表征第26-29页
    1.7 本文主要研究工作第29-31页
2 ITO薄膜的磁控溅射技术制备和结果分析第31-58页
    2.1 实验装置和镀膜工艺流程第31-33页
    2.2 制备工艺对ITO薄膜性能的影响第33-55页
        2.2.1 基片温度对ITO薄膜性能的影响第33-38页
        2.2.2 溅射时间对ITO薄膜性能的影响第38-42页
        2.2.3 氧氩比对ITO薄膜性能的影响第42-45页
        2.2.4 溅射功率对ITO薄膜性能的影响第45-51页
        2.2.5 溅射压强对ITO薄膜性能的影响第51-55页
    2.3 小结第55-58页
3 能量过滤磁控溅射技术对ITO薄膜性能的影响第58-65页
    3.1 EFMS技术的原理及装置第58-59页
    3.2 ITO薄膜样品的制备第59页
    3.3 实验结果及分析第59-63页
        3.3.1 EFMS技术对ITO薄膜晶体结构的影响第59-60页
        3.3.2 EFMS技术对ITO薄膜光学常数的影响第60-62页
        3.3.3 EFMS技术对ITO薄膜透射率的影响第62-63页
        3.3.4 EFMS技术对ITO薄膜电学性能的影响第63页
    3.4 小结第63-65页
4 ITO减反膜的优化和制备第65-74页
    4.1 ITO单层减反射膜第65-69页
        4.1.1 ITO单层减反膜的优化第65-67页
        4.1.2 ITO单层减反膜的制备第67-68页
        4.1.3 ITO单层减反膜的表征第68-69页
    4.2 ITO同质双层减反射第69-73页
        4.2.1 ITO双层减反射膜的优化第69-70页
        4.2.2 ITO双层减反射膜的制备第70-71页
        4.2.3 ITO双层减反射膜的表征第71-73页
    4.3 小结第73-74页
5 结论与展望第74-76页
    5.1 结论第74-75页
    5.2 展望第75-76页
参考文献第76-81页
致谢第81-82页
个人简历第82页

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