| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第11-31页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 ITO薄膜国内外研究现状 | 第12-13页 |
| 1.3 ITO薄膜的应用 | 第13-14页 |
| 1.4 ITO薄膜的透明导电机理 | 第14-18页 |
| 1.4.1 ITO薄膜的电学性能 | 第15-17页 |
| 1.4.2 ITO薄膜的光学性能 | 第17-18页 |
| 1.5 ITO薄膜的制备方法 | 第18-23页 |
| 1.5.1 溶胶-凝胶法 | 第18-19页 |
| 1.5.2 化学气相沉积法 | 第19-20页 |
| 1.5.3 喷雾热解法 | 第20页 |
| 1.5.4 脉冲激光沉积法 | 第20-21页 |
| 1.5.5 真空蒸发法 | 第21-22页 |
| 1.5.6 磁控溅射法 | 第22-23页 |
| 1.6 ITO薄膜的表征手段 | 第23-29页 |
| 1.6.1 物相与结构的表征 | 第23-24页 |
| 1.6.2 形貌的表征 | 第24-25页 |
| 1.6.3 电学性能的表征 | 第25-26页 |
| 1.6.4 光学性能的表征 | 第26-29页 |
| 1.7 本文主要研究工作 | 第29-31页 |
| 2 ITO薄膜的磁控溅射技术制备和结果分析 | 第31-58页 |
| 2.1 实验装置和镀膜工艺流程 | 第31-33页 |
| 2.2 制备工艺对ITO薄膜性能的影响 | 第33-55页 |
| 2.2.1 基片温度对ITO薄膜性能的影响 | 第33-38页 |
| 2.2.2 溅射时间对ITO薄膜性能的影响 | 第38-42页 |
| 2.2.3 氧氩比对ITO薄膜性能的影响 | 第42-45页 |
| 2.2.4 溅射功率对ITO薄膜性能的影响 | 第45-51页 |
| 2.2.5 溅射压强对ITO薄膜性能的影响 | 第51-55页 |
| 2.3 小结 | 第55-58页 |
| 3 能量过滤磁控溅射技术对ITO薄膜性能的影响 | 第58-65页 |
| 3.1 EFMS技术的原理及装置 | 第58-59页 |
| 3.2 ITO薄膜样品的制备 | 第59页 |
| 3.3 实验结果及分析 | 第59-63页 |
| 3.3.1 EFMS技术对ITO薄膜晶体结构的影响 | 第59-60页 |
| 3.3.2 EFMS技术对ITO薄膜光学常数的影响 | 第60-62页 |
| 3.3.3 EFMS技术对ITO薄膜透射率的影响 | 第62-63页 |
| 3.3.4 EFMS技术对ITO薄膜电学性能的影响 | 第63页 |
| 3.4 小结 | 第63-65页 |
| 4 ITO减反膜的优化和制备 | 第65-74页 |
| 4.1 ITO单层减反射膜 | 第65-69页 |
| 4.1.1 ITO单层减反膜的优化 | 第65-67页 |
| 4.1.2 ITO单层减反膜的制备 | 第67-68页 |
| 4.1.3 ITO单层减反膜的表征 | 第68-69页 |
| 4.2 ITO同质双层减反射 | 第69-73页 |
| 4.2.1 ITO双层减反射膜的优化 | 第69-70页 |
| 4.2.2 ITO双层减反射膜的制备 | 第70-71页 |
| 4.2.3 ITO双层减反射膜的表征 | 第71-73页 |
| 4.3 小结 | 第73-74页 |
| 5 结论与展望 | 第74-76页 |
| 5.1 结论 | 第74-75页 |
| 5.2 展望 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 个人简历 | 第82页 |
