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二氧化铪中氧空位性质的第一性原理研究

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-8页
图录第13-15页
表录第15-16页
第一章 绪论第16-25页
    1.1 引言第16-17页
    1.2 阻变存储器(Resistive Switching Radom Access Memory, RRAM)简介第17-23页
        1.2.1 阻变存储器的基本结构与工作模式第17-19页
        1.2.2 阻变材料及电阻转变机制第19-22页
        1.2.3 阻变存储器的性能参数第22-23页
    1.3 研究内容和研究意义第23-25页
第二章 第一性原理计算原理第25-40页
    2.1 引言第25页
    2.2 多电子体系的量子力学描述第25-29页
        2.2.1 绝热近似第25-27页
        2.2.2 Hartree-Fock 近似第27-29页
    2.3 密度泛函理论第29-37页
        2.3.1 Thomas-Fermi-Dirac 近似第29-30页
        2.3.2 Hohenberg-Kohn 定理第30-33页
        2.3.3 Kohn-Sham 假设第33-34页
        2.3.4 交换关联泛函第34-36页
        2.3.5 Kohn-Sham 方程的求解第36-37页
    2.4 赝势第37-39页
        2.4.1 规范守恒赝势第38页
        2.4.2 超软赝势第38-39页
    2.5 本章小结第39-40页
第三章 计算模型与参数选择第40-46页
    3.1 引言第40页
    3.2 计算所采用的晶体模型第40-43页
        3.2.1 HfO_2的晶体结构第40-43页
        3.2.2 氧空位的引入第43页
    3.2 截断能量与 k 点的选取第43-45页
    3.3 本章小结第45-46页
第四章 氧空位对 HfO_2材料电学性质的影响第46-58页
    4.1 引言第46页
    4.2 完整 HfO_2电子能带结构和态密度第46-51页
        4.2.1 完整 m-HfO_2的能带结构与态密度第46-48页
        4.2.2 完整 c-HfO_2 的能带结构与态密度第48-49页
        4.2.3 完整 t-HfO_2的能带结构与态密度第49-51页
    4.3 含有氧空位的 HfO_2电子能带结构和态密度第51-57页
        4.3.1 含有 Vo 的 m-HfO_2的能带结构与态密度第51-53页
        4.3.2 含有 Vo 的 c-,t-HfO_2的能带结构与态密度第53-57页
    4.4 本章小结第57-58页
第五章 HfO_2中氧空位的形成能第58-64页
    5.1 氧空位形成能与器件性能的关系第58页
    5.2 氧空位形成能的计算第58-63页
        5.2.1 计算方法第58-59页
        5.2.2 0K 条件下氧空位的形成能第59-60页
        5.2.3 不同温度下的氧空位形成能第60-63页
    5.3 本章小结第63-64页
第六章 HfO_2中氧空位的迁移第64-71页
    6.1 氧空位的迁移与 RRAM 的性能第64-65页
    6.2 HfO_2 中氧空位的迁移路径第65-67页
    6.3 跃迁势垒的计算方法第67-68页
    6.4 结果与讨论第68-70页
    6.5 本章小结第70-71页
第七章 Y 掺杂对不同晶相 HfO_2性质的影响第71-78页
    7.1 引言掺杂对 HfO_2各晶相稳定性的影响第71-72页
    7.2 计算模型第72-73页
    7.3 计算结果与讨论第73-76页
        7.3.1 Y 掺杂对 HfO_2电子能态密度的影响第73-74页
        7.3.2 Y 掺杂对 HfO_2 中氧空位形成能的影响第74-75页
        7.3.3 Y 掺杂对 HfO_2 中氧空位跃迁势垒的影响第75-76页
    7.4 本章小结第76-78页
第八章 结束语第78-81页
    8.1 工作总结第78-79页
    8.2 对后续工作的展望第79-81页
参考文献第81-88页
致谢第88-89页
硕士期间的主要研究成果第89页

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