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铋基氧化物微晶玻璃制备及其光催化性能研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第一章 绪论第11-21页
    1.1 半导体光催化技术概述第11-14页
        1.1.1 半导体光催化研究背景第11-12页
        1.1.2 半导体光催化基本原理第12-13页
        1.1.3 半导体光催化影响因素第13-14页
    1.2 铋基氧化物光催化材料第14-16页
        1.2.1 Bi_4Ti_3O_(12)光催化材料第14页
        1.2.2 BiVO_4光催化材料第14-15页
        1.2.3 Bi_2MoO_6光催化材料第15-16页
    1.3 光催化剂制备方法第16-19页
        1.3.1 高温固相反应法第16页
        1.3.2 溶胶凝胶法第16页
        1.3.3 水热法第16-17页
        1.3.4 沉淀法第17-18页
        1.3.5 微乳液法第18页
        1.3.6 微晶玻璃法第18-19页
    1.4 本文研究内容与意义第19-21页
第二章 实验与表征方法第21-27页
    2.1 实验原材料第21页
    2.2 实验仪器及设备第21-22页
    2.3 样品制备第22-23页
        2.3.1 Bi_4Ti_3O_(12)微晶玻璃制备第22页
        2.3.2 BiVO_4微晶玻璃制备第22-23页
        2.3.3 Bi_2MoO_6微晶玻璃制备第23页
    2.4 样品表征与性能测试第23-27页
        2.4.1 X射线衍射分析(XRD)第23页
        2.4.2 差式扫描量热法(DSC)第23页
        2.4.3 红外光谱测试(FT-IR)第23-24页
        2.4.4 Raman光谱表征第24页
        2.4.5 比表面积与孔径表征第24页
        2.4.6 紫外可见光吸收光谱(UV-Vis)第24页
        2.4.7 光催化实验第24-27页
第三章 Bi_4Ti_3O_(12)微晶玻璃制备及其光催化性能研究第27-35页
    3.1 样品制备第27-28页
    3.2 BiTi微晶玻璃XRD表征第28-29页
    3.3 BiTi微晶玻璃Raman光谱表征第29-31页
    3.4 BiTi微晶玻璃FT-IR表征第31-32页
    3.5 BiTi微晶玻璃光催化性能评价第32-33页
    3.6 本章小结第33-35页
第四章 BiVO_4微晶玻璃制备及其光催化性能研究第35-46页
    4.1 样品制备第35-36页
    4.2 BiV微晶玻璃XRD表征第36-39页
    4.3 BiV微晶玻璃Raman表征第39-40页
    4.4 BiV微晶玻璃FT-IR表征第40-43页
    4.5 BiV微晶玻璃光催化性能评价第43-44页
    4.6 本章小结第44-46页
第五章 Bi_2MoO_6微晶玻璃制备及其光催化性能研究第46-70页
    5.1 样品制备第46-47页
    5.2 BiMo微晶玻璃DSC表征第47-50页
    5.3 BiMo微晶玻璃XRD表征第50-52页
    5.4 BiMo微晶玻璃Raman表征第52-55页
    5.5 BiMo微晶玻璃FT-IR表征第55-58页
    5.6 BiMo微晶玻璃Bet表征第58-61页
    5.7 BiMo微晶玻璃紫外-可见漫反射光谱分析第61-63页
    5.8 BiMo微晶玻璃光催化性能评价第63-68页
        5.8.1 热处理保温时间对BiMo微晶玻璃光催化性能的影响第63-65页
        5.8.2 酸腐蚀对BiMo微晶玻璃光催化性能影响第65-66页
        5.8.3 pH值对BiMo微晶玻璃光催化性能的影响第66-67页
        5.8.4 外加剂对BiMo微晶玻璃光催化性能的影响第67-68页
    5.9 本章小结第68-70页
第六章 结论第70-72页
致谢第72-73页
参考文献第73-78页
个人简历、在学期间发表的学术论文及取得的研究成果第78页

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