| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 石墨烯表界面力学性能与行为的研究进展 | 第11-15页 |
| 1.3 本文的主要研究工作 | 第15-16页 |
| 第二章 本文使用的基本理论和方法 | 第16-24页 |
| 2.1 第一性原理计算方法概述 | 第16-17页 |
| 2.2 Born-Oppenheimer近似与Hartree-Fock近似 | 第17-18页 |
| 2.3 密度泛函理论简介 | 第18-20页 |
| 2.3.1 Hohenberg-Kohn理论 | 第18页 |
| 2.3.2 Kohn-Sham方程 | 第18-19页 |
| 2.3.3 交换相关泛函 | 第19-20页 |
| 2.4 密度泛函的求解：平面波基矢和赝势 | 第20-22页 |
| 2.4.1 平面波方法 | 第20-21页 |
| 2.4.2 赝势 | 第21-22页 |
| 2.5 量子力学计算软件VASP简介 | 第22-24页 |
| 第三章 表面功能化对石墨烯/h-BN异质结构的界面摩擦影响 | 第24-32页 |
| 3.1 研究背景 | 第24-25页 |
| 3.2 计算模型和计算方法介绍 | 第25-27页 |
| 3.3 结果分析 | 第27-31页 |
| 3.4 本章小结 | 第31-32页 |
| 第四章 少层石墨烯和h-BN褶皱的力电耦合特性 | 第32-40页 |
| 4.1 研究背景 | 第32-33页 |
| 4.2 计算模型和计算方法介绍 | 第33页 |
| 4.3 结果分析 | 第33-39页 |
| 4.3.1 少层石墨烯和h-BN褶皱的力学性能 | 第33-37页 |
| 4.3.2 少层石墨烯和h-BN褶皱的电子性能 | 第37-39页 |
| 4.4 本章小结 | 第39-40页 |
| 第五章 总结与展望 | 第40-42页 |
| 5.1 主要工作总结 | 第40页 |
| 5.2 后续工作展望 | 第40-42页 |
| 参考文献 | 第42-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第51页 |