| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 符号对照表 | 第11-13页 |
| 缩略语对照表 | 第13-16页 |
| 第一章 绪论 | 第16-24页 |
| 1.1 研究的背景及意义 | 第16-18页 |
| 1.2 国内外研究情况 | 第18-21页 |
| 1.2.1 等离子体中电波传播算法概述 | 第18-20页 |
| 1.2.2 等离子体电波传播地面及飞行实验 | 第20-21页 |
| 1.3 论文的主要内容和任务安排 | 第21-24页 |
| 第二章 等离子鞘套的电磁特性 | 第24-34页 |
| 2.1 等离子鞘套的形成机理 | 第24-25页 |
| 2.2 等离子鞘套中的各项参数 | 第25-28页 |
| 2.2.1 碰撞频率 | 第25-26页 |
| 2.2.2 电子密度 | 第26页 |
| 2.2.3 电导率 | 第26-27页 |
| 2.2.4 特征角频率 | 第27页 |
| 2.2.5 介电常数 | 第27-28页 |
| 2.2.6 回旋频率 | 第28页 |
| 2.3 等离子鞘套与电磁波的相互作用 | 第28-31页 |
| 2.4 等离子鞘套对通信信号影响的应对方法 | 第31-32页 |
| 2.5 本章小节 | 第32-34页 |
| 第三章 基于FDTD方法研究等离子鞘套中电波传播特性 | 第34-54页 |
| 3.1 FDTD方法介绍 | 第34-45页 |
| 3.1.1 直角坐标系中FDTD方法 | 第34-39页 |
| 3.1.2 吸收边界条件 | 第39-43页 |
| 3.1.3 激励源 | 第43-45页 |
| 3.2 电磁波垂直入射二维等离子体 | 第45-50页 |
| 3.3 等离子鞘套中电波传播算例 | 第50-52页 |
| 3.4 本章小节 | 第52-54页 |
| 第四章 基于相位屏理论方法的等离子鞘套中电磁波传播研究 | 第54-66页 |
| 4.1 相位屏理论 | 第54-56页 |
| 4.2 Shkarofsky功率谱密度 | 第56-58页 |
| 4.3 基于相位屏理论研究等离子鞘套的电波传播问题 | 第58-64页 |
| 4.3.1 电子密度与时间成正态变化时的功率谱与相位谱的变化 | 第60-61页 |
| 4.3.2 不同分层数时的功率谱与相位谱变化情况 | 第61-62页 |
| 4.3.3 不同等效相位屏厚度时的功率谱与相位谱的变化情况 | 第62-64页 |
| 4.4 本章小节 | 第64-66页 |
| 第五章 烧蚀情况下等离子鞘套的电磁散射特性研究 | 第66-82页 |
| 5.1 椭球体的瑞利-金斯近似 | 第67-71页 |
| 5.2 烧蚀颗粒散射的蒙特卡洛方法 | 第71-74页 |
| 5.3 数值模拟结果以及分析 | 第74-75页 |
| 5.3.1 不同入射角的双站散射系数。 | 第74-75页 |
| 5.3.2 不同入射波频率的双站散射系数 | 第75页 |
| 5.4 粗糙面的相关统计参量 | 第75-78页 |
| 5.5 粗糙面上方含烧蚀颗粒的双站散射系数 | 第78-80页 |
| 5.6 本章小节 | 第80-82页 |
| 第六章 总结与展望 | 第82-84页 |
| 参考文献 | 第84-88页 |
| 致谢 | 第88-90页 |
| 作者简介 | 第90-91页 |
