摘要 | 第5-8页 |
Abstract | 第8-11页 |
第1章 绪论 | 第14-44页 |
1.1 引言 | 第14-17页 |
1.2 氧化铈担载型催化剂 | 第17-33页 |
1.2.1 氧化铈担载型催化剂的应用 | 第17页 |
1.2.2 CeO_2的结构和性能 | 第17-19页 |
1.2.3 CeO_2(111)薄膜的制备 | 第19-24页 |
1.2.4 CeO_2担载金属模型催化剂的界面研究 | 第24-28页 |
1.2.5 CeO_2掺杂金属模型催化剂 | 第28-31页 |
1.2.6 Ag/CeO_2模型催化剂研究进展 | 第31-33页 |
1.3 本文的选题思路和主要研究内容 | 第33-35页 |
参考文献 | 第35-44页 |
第2章 实验技术和方法 | 第44-56页 |
2.1 扫描隧道显微镜(Scanning Tunneling Microscopy,STM) | 第44-48页 |
2.1.1 扫描隧道显微镜的基本原理 | 第44-46页 |
2.1.2 扫描隧道显微镜的基本构造和工作模式 | 第46-47页 |
2.1.3 扫描隧道显微镜的工作模式 | 第47-48页 |
2.2 光电子能谱(Photoelectron Spectroscopy,PES) | 第48-51页 |
2.2.1 基本原理 | 第48-50页 |
2.2.2 光电子能谱的分类 | 第50-51页 |
2.3 低能电子衍射(Low energy electron diffraction,LEED) | 第51-52页 |
2.4 分子束外延生长技术(Molecular beam epitaxy,MBE) | 第52-53页 |
2.5 实验仪器介绍 | 第53-55页 |
参考文献 | 第55-56页 |
第3章 还原性CeO_2(111)薄膜担载Ag纳米颗粒的扫描隧道显微镜研究 | 第56-80页 |
3.1 引言 | 第56-57页 |
3.2 实验部分 | 第57-59页 |
3.3 实验结果 | 第59-70页 |
3.3.1 Cu(111)单晶表面外延生长的不同厚度的CeO_2薄膜 | 第59-62页 |
3.3.2 Cu(111)单晶表面外延生长的不同还原度的CeO_(2-x)薄膜 | 第62-65页 |
3.3.3 室温条件下Ag在CeO_(2-x)薄膜上的生长 | 第65-68页 |
3.3.4 Ag纳米颗粒在2nm厚CeO_(2-x)薄膜上退火行为的研究 | 第68-70页 |
3.4 讨论 | 第70-72页 |
3.4.1 薄膜表面缺陷对Ag生长和退火行为的影响 | 第70-71页 |
3.4.2 Ag诱导氧化铈薄膜的还原机理 | 第71-72页 |
3.5 本章小结 | 第72-74页 |
参考文献 | 第74-80页 |
第4章 CeO_2担载的Cu以及Cu-Ag、Ag-Cu纳米颗粒模型催化剂的制备和表征 | 第80-102页 |
4.1 引言 | 第80-81页 |
4.2 实验部分 | 第81-82页 |
4.3 实验结果 | 第82-95页 |
4.3.1 室温条件下Cu在CeO_2(111)面上的生长 | 第82-86页 |
4.3.2 Cu纳米颗粒在CeO_2表面上热稳定性的研究 | 第86-90页 |
4.3.3 Ag纳米颗粒在沉积Cu后的CeO_2薄膜表面上的生长和退火 | 第90-93页 |
4.3.4 Cu纳米颗粒在沉积一定量Ag纳米颗粒的CeO_2薄膜表面的生长和退火 | 第93-95页 |
4.5 本章小结 | 第95-97页 |
参考文献 | 第97-102页 |
第5章 Zr与CeO_2(111)之间的相互作用及其对担载的Ag纳米颗粒的影响 | 第102-124页 |
5.1 引言 | 第102-103页 |
5.2 实验部分 | 第103-104页 |
5.3 实验结果 | 第104-115页 |
5.3.1 室温条件下Zr在CeO_2(111)薄膜上的生长 | 第104-109页 |
5.3.2 Zr/CeO_2界面层退火行为的研究 | 第109-111页 |
5.3.3 Zr在900 K温度条件下在CeO_2(111)表面的生长 | 第111-113页 |
5.3.4 Ag纳米颗粒在Zr修饰的CeO_2薄膜表面的生长 | 第113-115页 |
5.4 讨论 | 第115-116页 |
5.5 本章小结 | 第116-117页 |
参考文献 | 第117-124页 |
第6章 总结与展望 | 第124-127页 |
6.1 全文总结 | 第124-125页 |
6.2 展望 | 第125-127页 |
致谢 | 第127-129页 |
在攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第129-130页 |