| 致谢 | 第4-7页 |
| 摘要 | 第7-9页 |
| ABSTRACT | 第9-10页 |
| 1 绪论 | 第15-37页 |
| 1.1 引言 | 第15-16页 |
| 1.2 激光光束合成技术概述 | 第16-23页 |
| 1.2.1 光谱合成技术 | 第16-18页 |
| 1.2.2 偏振合成技术 | 第18-20页 |
| 1.2.3 非相干合成技术 | 第20-21页 |
| 1.2.4 相干合成技术 | 第21-22页 |
| 1.2.5 光束合成技术小结 | 第22-23页 |
| 1.3 激光相干合成技术的发展历史与现状 | 第23-34页 |
| 1.3.1 激光相干合成技术的发展历史 | 第23-26页 |
| 1.3.1.1 气体激光相干合成 | 第23-24页 |
| 1.3.1.2 化学激光相干合成 | 第24-25页 |
| 1.3.1.3 半导体激光相干合成 | 第25-26页 |
| 1.3.1.4 固态激光相干合成 | 第26页 |
| 1.3.2 板条固体和光纤激光相干合成技术发展现状 | 第26-32页 |
| 1.3.2.1 板条固体激光相干合成技术发展现状 | 第27-29页 |
| 1.3.2.2 光纤激光相干合成技术发展现状 | 第29-32页 |
| 1.3.3 基于目标在回路的激光相干合成技术 | 第32-34页 |
| 1.3.4 激光相干合成中的关键技术和方法小结 | 第34页 |
| 1.4 论文研究内容与结构安排 | 第34-37页 |
| 2 激光相干合成技术的理论研究及仿真分析 | 第37-51页 |
| 2.1 激光相干合成的远场计算模型 | 第37-38页 |
| 2.2 光束相干合成效果评价指标 | 第38-41页 |
| 2.2.1 斯特列尔比（SR） | 第39页 |
| 2.2.2 光束质量β因子 | 第39页 |
| 2.2.3 桶中功率 | 第39页 |
| 2.2.4 远场光斑中央主瓣能量比 | 第39-40页 |
| 2.2.5 远场光斑中央主瓣能量密度 | 第40页 |
| 2.2.6 远场光斑半径 | 第40页 |
| 2.2.7 对比度 | 第40页 |
| 2.2.8 相干合成效果评价指标小结 | 第40-41页 |
| 2.3 激光相干合成中波像差与合成光束质量的关系 | 第41-45页 |
| 2.3.1 矩形光束像差描述及理论模型 | 第41-42页 |
| 2.3.2 单路矩形光束波像差与光束质量的关系 | 第42-43页 |
| 2.3.3 三路矩形光束相干合成时波像差与光束质量的关系 | 第43-45页 |
| 2.4 激光相干合成中单路光束质量β因子与合成光束质量β因子的关系 | 第45-50页 |
| 2.4.1 仿真计算的理论模型 | 第46-47页 |
| 2.4.2 填充因子的定义 | 第47-48页 |
| 2.4.3 仿真结果及分析 | 第48-50页 |
| 2.5 本章小结 | 第50-51页 |
| 3 填充因子对相干合成的影响分析 | 第51-69页 |
| 3.1 激光相干合成中填充因子对远场光强分布的影响 | 第51-59页 |
| 3.1.1 填充因子对相干合成远场光强分布的理论分析 | 第51-54页 |
| 3.1.2 填充因子对合成效果评价指标的影响 | 第54-59页 |
| 3.1.2.1 填充因子与斯特列尔比的关系 | 第54-55页 |
| 3.1.2.2 填充因子与中央主瓣半径的关系 | 第55-56页 |
| 3.1.2.3 填充因子与归一化中央主瓣能量密度的关系 | 第56-57页 |
| 3.1.2.4 填充因子与中央主瓣能量比的关系 | 第57-58页 |
| 3.1.2.5 填充因子与桶中功率的关系 | 第58-59页 |
| 3.2 激光相干合成中填充因子对平移或倾斜像差校正的影响 | 第59-66页 |
| 3.2.1 仿真计算的理论基础 | 第60-61页 |
| 3.2.2 平移或倾斜像差rms值与PIB的关系 | 第61-63页 |
| 3.2.3 填充因子对平移像差校正的影响 | 第63-65页 |
| 3.2.4 填充因子对倾斜像差校正的影响 | 第65-66页 |
| 3.3 本章小结 | 第66-69页 |
| 4 板条固体激光相干合成的实验研究 | 第69-85页 |
| 4.1 两路矩形光束相干合成实验 | 第69-74页 |
| 4.1.1 实验原理概述 | 第69-70页 |
| 4.1.2 平移和倾斜像差校正器件：能动分块反射镜 | 第70-71页 |
| 4.1.3 实验结果及分析 | 第71-74页 |
| 4.2 两路板条固体激光相干合成实验 | 第74-81页 |
| 4.2.1 实验方案与系统结构 | 第74-76页 |
| 4.2.2 单路光束净化实验原理及结果 | 第76-79页 |
| 4.2.3 实验结果分析 | 第79-81页 |
| 4.3 四路板条固体激光相干合成实验 | 第81-84页 |
| 4.4 本章小结 | 第84-85页 |
| 5 光纤激光相干合成中的能动器件 | 第85-93页 |
| 5.1 自适应光纤光源准直器 | 第85-86页 |
| 5.1.1 自适应光纤光源准直器的结构和原理 | 第85-86页 |
| 5.1.2 自适应光纤光源准直器的性能参数测量 | 第86页 |
| 5.2 压电相位调制器 | 第86-92页 |
| 5.2.1 压电相位调制器的结构及原理 | 第86-87页 |
| 5.2.2 压电相位调制器性能参数测试原理及步骤 | 第87-90页 |
| 5.2.3 压电相位调制器性能参数测量结果 | 第90-92页 |
| 5.3 本章小结 | 第92-93页 |
| 6 基于目标在回路的光纤激光相干合成实验研究：单光束倾斜校正 | 第93-103页 |
| 6.1 实验方案与系统结构 | 第93-95页 |
| 6.1.1 实验原理介绍 | 第93-95页 |
| 6.1.2 实验方案设计 | 第95页 |
| 6.2 实验方案可行性验证 | 第95-96页 |
| 6.3 静态目标的瞄准实验 | 第96-101页 |
| 6.3.1 静态二维目标的瞄准实验结果 | 第96-98页 |
| 6.3.2 静态三维目标的瞄准实验结果 | 第98-99页 |
| 6.3.3 静态目标瞄准精度分析 | 第99-101页 |
| 6.4 动态目标的跟踪瞄准实验 | 第101页 |
| 6.5 本章小结 | 第101-103页 |
| 7 基于目标在回路的光纤激光相干合成实验研究：多光束的倾斜和锁相控制 | 第103-113页 |
| 7.1 实验方案与系统结构 | 第103-105页 |
| 7.2 实验结果及分析 | 第105-111页 |
| 7.2.1 基于目标在回路的三路激光相干合成实验结果及分析 | 第105-108页 |
| 7.2.2 基于目标在回路的七路激光相干合成实验结果及分析 | 第108-111页 |
| 7.3 本章小结 | 第111-113页 |
| 8 结束语 | 第113-117页 |
| 8.1 文章研究的主要内容和结论 | 第113-114页 |
| 8.2 论文的主要创新点 | 第114-115页 |
| 8.3 未来工作的展望 | 第115-117页 |
| 参考文献 | 第117-127页 |
| 作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第127页 |
