| 摘要 | 第4-5页 |
| 英文摘要 | 第5页 |
| 注释表 | 第12-13页 |
| 缩略词 | 第13-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-25页 |
| 1.1 课题背景 | 第14-15页 |
| 1.2 微坑阵列加工技术 | 第15-22页 |
| 1.2.1 金刚石压印技术 | 第16页 |
| 1.2.2 激光加工技术 | 第16-17页 |
| 1.2.3 超声加工技术 | 第17页 |
| 1.2.4 磨料气射流加工技术 | 第17-18页 |
| 1.2.5 电火花加工技术 | 第18-19页 |
| 1.2.6 电化学加工技术 | 第19-22页 |
| 1.3 掩模电解加工技术 | 第22-23页 |
| 1.3.1 覆铜板掩模电解加工技术 | 第22页 |
| 1.3.2 电解转印加工技术 | 第22-23页 |
| 1.3.3 PDMS掩模电解加工技术 | 第23页 |
| 1.3.4 干膜掩模电解加工技术 | 第23页 |
| 1.4 课题研究的意义及主要内容 | 第23-25页 |
| 1.4.1 课题研究的意义 | 第23-24页 |
| 1.4.2 课题研究的主要内容 | 第24-25页 |
| 第二章 掩模电解加工理论基础及电场仿真分析 | 第25-35页 |
| 2.1 电解加工的基本原理 | 第25-27页 |
| 2.1.1 法拉第定律 | 第26页 |
| 2.1.2 电解加工的特点 | 第26-27页 |
| 2.2 基于干膜掩模的电解加工基本原理 | 第27-29页 |
| 2.2.1 掩模电解加工间隙的电场特性分析 | 第27-28页 |
| 2.2.2 掩模电解加工成形规律分析 | 第28-29页 |
| 2.3 掩模电解加工的电场仿真分析 | 第29-34页 |
| 2.3.1 电场模型的建立 | 第30-31页 |
| 2.3.2 基于COMSOL的电场模型的有限元分析 | 第31-34页 |
| 2.4 本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 基于干膜的掩模制备研究 | 第35-45页 |
| 3.1 干膜介绍及其应用现状 | 第35-36页 |
| 3.1.1 干膜介绍 | 第35页 |
| 3.1.2 干膜的应用现状 | 第35-36页 |
| 3.2 干膜掩模制备的工艺研究 | 第36-44页 |
| 3.2.1 干膜的曝光试验研究 | 第37-40页 |
| 3.2.2 干膜的显影试验研究 | 第40-43页 |
| 3.2.3 参数优选 | 第43-44页 |
| 3.3 本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 使用干膜掩模进行电解加工微坑阵列试验研究 | 第45-65页 |
| 4.1 干膜掩模电解加工工艺系统 | 第45-49页 |
| 4.1.1 电解加工机床 | 第45-46页 |
| 4.1.2 电解加工电源及其他电气设备 | 第46-47页 |
| 4.1.3 电解液选择及电解液循环系统 | 第47-49页 |
| 4.1.4 微坑测量检测设备 | 第49页 |
| 4.2 工装夹具设计 | 第49-51页 |
| 4.2.1 电解液的冲液方案确定 | 第50页 |
| 4.2.2 掩模贴紧方案设计 | 第50-51页 |
| 4.3 电解加工试验研究 | 第51-61页 |
| 4.3.1 加工间隙对电解加工结果的影响 | 第51-53页 |
| 4.3.2 电解液压力对电解加工结果的影响 | 第53-54页 |
| 4.3.3 干膜掩模孔径对电解加工结果的影响 | 第54-55页 |
| 4.3.4 加工电压对电解加工结果的影响 | 第55-57页 |
| 4.3.5 加工时间对电解加工结果的影响 | 第57-60页 |
| 4.3.6 参数优选 | 第60-61页 |
| 4.4 干膜掩模电解加工圆柱外表面试验研究 | 第61-63页 |
| 4.4.1 电解工装夹具设计 | 第61-62页 |
| 4.4.2 电解加工圆柱外表面试验研究 | 第62-63页 |
| 4.5 干膜掩模电解加工异形坑研究 | 第63-64页 |
| 4.6 本章小结 | 第64-65页 |
| 第五章 总结与展望 | 第65-66页 |
| 5.1 总结 | 第65页 |
| 5.2 展望 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第71页 |