硬脆材料的精密抛光及其自动化控制技术研究
| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 研究背景 | 第11-16页 |
| 1.1.1 硬脆材料的应用 | 第11-12页 |
| 1.1.2 硬脆材料的精密加工技术 | 第12-16页 |
| 1.2 国内外相关研究现状 | 第16-19页 |
| 1.2.1 硬脆材料的化学机械抛光技术研究现状 | 第16-17页 |
| 1.2.2 硬脆材料的计算机控制抛光技术研究现状 | 第17-19页 |
| 1.3 论文的研究意义及主要研究内容 | 第19-21页 |
| 1.3.1 论文的研究意义 | 第19-20页 |
| 1.3.2 论文的主要内容 | 第20-21页 |
| 2 计算机控制抛光原理及工艺分析 | 第21-34页 |
| 2.1 化学机械抛光的去除机理 | 第21-23页 |
| 2.1.1 机械作用 | 第21-22页 |
| 2.1.2 化学作用 | 第22-23页 |
| 2.2 用数学算子表示去除率数学模型 | 第23-28页 |
| 2.2.1 Preston假设及理论基础 | 第23-24页 |
| 2.2.2 去除函数的建模 | 第24-28页 |
| 2.3 驻留时间求解 | 第28-31页 |
| 2.3.1 脉冲迭代法 | 第29页 |
| 2.3.2 傅里叶变换法 | 第29-30页 |
| 2.3.3 离散矩阵算法 | 第30-31页 |
| 2.4 计算机控制抛光的整体设计思路 | 第31-33页 |
| 2.5 本章小结 | 第33-34页 |
| 3 计算机控制抛光系统的构建 | 第34-45页 |
| 3.1 机械结构设计 | 第34-40页 |
| 3.1.1 主轴传动结构 | 第34-38页 |
| 3.1.2 抛光头运动结构 | 第38-40页 |
| 3.2 控制器硬件结构设计 | 第40-42页 |
| 3.2.1 控制器选型 | 第40-41页 |
| 3.2.2 驱动器选型 | 第41-42页 |
| 3.2.3 控制电路 | 第42页 |
| 3.3 软件结构设计 | 第42-44页 |
| 3.4 本章小结 | 第44-45页 |
| 4 抛光质量的影响因素分析 | 第45-57页 |
| 4.1 抛光质量的主要评价指标 | 第45-46页 |
| 4.2 实验设计及结果分析 | 第46-52页 |
| 4.2.1 抛光参数对材料去除率的影响 | 第47-49页 |
| 4.2.2 抛光参数对表面粗糙度的影响 | 第49-52页 |
| 4.3 平面抛光的参数优化实验 | 第52-55页 |
| 4.4 本章小结 | 第55-57页 |
| 5 抛光工艺的关键问题及计算机控制抛光非球面实例 | 第57-76页 |
| 5.1 工件与抛光模的不匹配度分析 | 第57-60页 |
| 5.1.1 不匹配度的数学建模 | 第57-58页 |
| 5.1.2 仿真结果及分析 | 第58-60页 |
| 5.2 边缘效应的产生及其控制方法探究 | 第60-65页 |
| 5.2.1 边缘效应的形成机理 | 第60页 |
| 5.2.2 边缘效应的压力分布 | 第60-64页 |
| 5.2.3 边缘效应的控制实例 | 第64-65页 |
| 5.3 非球面抛光的实验研究 | 第65-75页 |
| 5.3.1 非球面的面形数据处理 | 第66-69页 |
| 5.3.2 非球面自动化抛光的原理及算法 | 第69-71页 |
| 5.3.3 实验设计 | 第71-74页 |
| 5.3.4 结果分析 | 第74-75页 |
| 5.4 本章小结 | 第75-76页 |
| 6 结论与展望 | 第76-78页 |
| 6.1 结论 | 第76-77页 |
| 6.2 展望 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-83页 |
