| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-17页 |
| 1.1 金属-绝缘体相变理论 | 第8-10页 |
| 1.1.1 金属-绝缘体相变原理 | 第8-9页 |
| 1.1.2 二氧化钒热致相变机理 | 第9-10页 |
| 1.2 氧化钒薄膜研究进展 | 第10-16页 |
| 1.2.1 五氧化二钒薄膜制备研究进展 | 第11-14页 |
| 1.2.2 二氧化钒薄膜研究进展 | 第14-15页 |
| 1.2.3 氧化钒有序微结构研究进展 | 第15-16页 |
| 1.3 本论文研究目的和内容 | 第16-17页 |
| 第2章 实验材料及测试方法 | 第17-20页 |
| 2.1 实验仪器和设备 | 第17页 |
| 2.2 实验试剂 | 第17-18页 |
| 2.3 测试方法 | 第18-20页 |
| 2.3.1 Zeta 电位仪 | 第18页 |
| 2.3.2 电子扫描显微镜及能谱仪 | 第18页 |
| 2.3.3 X 射线衍射谱仪 | 第18页 |
| 2.3.4 光纤光谱仪 | 第18页 |
| 2.3.5 电化学工作站 | 第18页 |
| 2.3.6 椭偏仪 | 第18-19页 |
| 2.3.7 四探针测试仪 | 第19页 |
| 2.3.8 飞秒激光器 | 第19-20页 |
| 第3章 二氧化钒薄膜制备及其性能表征 | 第20-43页 |
| 3.1 氧化钒薄膜制备工艺研究 | 第20-34页 |
| 3.1.1 五氧化二钒溶胶制备及其 Zeta 电位测试 | 第20-24页 |
| 3.1.2 提拉法和旋涂法制膜 | 第24-26页 |
| 3.1.3 五氧化二钒薄膜退火热处理研究 | 第26-34页 |
| 3.2 氧化钒薄膜表征 | 第34-41页 |
| 3.2.1 SEM 及 AFM 表征 | 第34-38页 |
| 3.2.2 XRD 表征 | 第38-39页 |
| 3.2.3 椭偏仪表征 | 第39-41页 |
| 3.3 本章小结 | 第41-43页 |
| 第4章 氧化钒有序微结构的制备及热致相变性能 | 第43-61页 |
| 4.1 氧化钒有序微结构的获得 | 第43-55页 |
| 4.1.1 胶体模板的制备 | 第43-49页 |
| 4.1.2 模板的填充 | 第49-53页 |
| 4.1.3 模板的去除与热处理 | 第53-55页 |
| 4.2 氧化钒有序微结构热致相变性能 | 第55-60页 |
| 4.2.1 透射率-温度变化曲线 | 第55-57页 |
| 4.2.2 电阻-温度变化曲线 | 第57页 |
| 4.2.3 飞秒激光瞬态光栅实验 | 第57-60页 |
| 4.3 本章小结 | 第60-61页 |
| 结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-67页 |
| 致谢 | 第67页 |