| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 第1章 绪论 | 第7-17页 |
| 1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第7-8页 |
| 1.2 表面等离子体纳米光刻技术的研究进展 | 第8-9页 |
| 1.3 平面透镜成像纳米光刻技术的研究进展 | 第9-15页 |
| 1.4 论文主要内容 | 第15-17页 |
| 第2章 金属薄膜超透镜光刻成像的理论分析 | 第17-31页 |
| 2.1 Drude 模型及衍射极限 | 第17-20页 |
| 2.1.1 Drude 模型 | 第17-18页 |
| 2.1.2 衍射极限 | 第18-20页 |
| 2.2 单层银膜超透镜光刻成像的理论分析 | 第20-27页 |
| 2.2.1 完美透镜与超透镜 | 第21-23页 |
| 2.2.2 单层金属薄膜超透镜光刻成像的理论分析 | 第23-27页 |
| 2.3 金属反射层超透镜成像的理论分析 | 第27-30页 |
| 2.3.1 反射成像理论 | 第27-29页 |
| 2.3.2 金属反射层在超透镜光刻中的作用的原理分析 | 第29-30页 |
| 2.4 本章小结 | 第30-31页 |
| 第3章 单层银膜超透镜成像质量的研究 | 第31-49页 |
| 3.1 单层银膜超透镜模型结构建立及成像原理的介绍 | 第31-34页 |
| 3.1.1 单层银膜超透镜模型结构 | 第31-32页 |
| 3.1.2 评价光刻质量的参数介绍 | 第32-34页 |
| 3.2 单层银膜超透镜光刻成像中反射层的作用 | 第34-38页 |
| 3.2.1 反射层具有提高透过率、分辨率的作用 | 第34-36页 |
| 3.2.2 反射层具有改善光刻景深的作用 | 第36-38页 |
| 3.3 影响成像效果因素的讨论 | 第38-47页 |
| 3.3.1 反射层厚度对成像质量的影响 | 第38-41页 |
| 3.3.2 光刻胶厚度对成像质量的影响 | 第41-42页 |
| 3.3.3 入射光偏振态对成像质量的影响 | 第42-45页 |
| 3.3.4 入射光波长对成像质量的影响 | 第45-47页 |
| 3.4 加入反射层的单层银膜超透镜模型的应用 | 第47页 |
| 3.5 本章小结 | 第47-49页 |
| 第4章 双层交叠式超透镜 | 第49-56页 |
| 4.1 模型设计及原理说明 | 第49-51页 |
| 4.2 双层交叠式超透镜的结构优化 | 第51-54页 |
| 4.2.1 单元结构厚度及层数对成像质量的影响 | 第51-52页 |
| 4.2.2 反射层厚度、光刻胶厚度对成像质量的影响 | 第52-54页 |
| 4.3 双层交叠式超透镜应用的局限性 | 第54-55页 |
| 4.4 本章小结 | 第55-56页 |
| 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
