| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第12-22页 |
| 1.1 引言 | 第12页 |
| 1.2 超疏水表面的作用原理 | 第12-15页 |
| 1.2.1 接触角的定义及Yong氏方程 | 第12-13页 |
| 1.2.2 Wenzel模型 | 第13-14页 |
| 1.2.3 Cassie模型 | 第14-15页 |
| 1.3 超疏水织物的制备方法 | 第15-17页 |
| 1.3.1 溶胶—凝胶法 | 第15-16页 |
| 1.3.2 自组装法 | 第16页 |
| 1.3.3 化学气相沉积法 | 第16页 |
| 1.3.4 刻蚀法 | 第16-17页 |
| 1.3.5 静电纺丝法 | 第17页 |
| 1.3.6 其他方法 | 第17页 |
| 1.4 制备超疏水织物常用的低表面能材料 | 第17-20页 |
| 1.4.1 脂肪烃类 | 第17-18页 |
| 1.4.2 有机氟类 | 第18页 |
| 1.4.3 有机硅类 | 第18-19页 |
| 1.4.4 聚丙烯酸酯类 | 第19页 |
| 1.4.5 有机—无机复合材料 | 第19-20页 |
| 1.5 超疏水织物的研究进展 | 第20-21页 |
| 1.6 本课题的研究目的及意义 | 第21-22页 |
| 第二章 有机硅改性硅溶胶超疏水整理剂的合成及应用 | 第22-48页 |
| 2.1 引言 | 第22页 |
| 2.2 实验部分 | 第22-27页 |
| 2.2.1 实验药品和仪器 | 第22-25页 |
| 2.2.2 有机硅改性硅溶胶超疏水整理剂的合成 | 第25-27页 |
| 2.2.2.1 中间体硅烷偶联剂PTKH的合成 | 第25页 |
| 2.2.2.2 有机硅预聚体OSP的合成 | 第25-26页 |
| 2.2.2.3 有机硅改性硅溶胶超疏水整理剂OSMS的合成 | 第26-27页 |
| 2.2.3 有机硅改性硅溶胶超疏水整理剂 OSMS 的应用工艺 | 第27页 |
| 2.3 测试方法 | 第27-31页 |
| 2.4 结果与讨论 | 第31-47页 |
| 2.4.1 影响中间体硅烷偶联剂PTKH合成的工艺条件 | 第31-32页 |
| 2.4.1.1 反应物的物质的量之比 | 第31页 |
| 2.4.1.2 催化剂 | 第31-32页 |
| 2.4.2 影响有机硅预聚体OSP合成的工艺条件 | 第32-34页 |
| 2.4.2.1 反应物的物质的量之比 | 第32-33页 |
| 2.4.2.2 催化剂 | 第33-34页 |
| 2.4.3 影响有机硅改性硅溶胶OSMS合成的工艺条件 | 第34-37页 |
| 2.4.3.1 反应物的质量比 | 第34页 |
| 2.4.3.2 氨水的用量 | 第34-35页 |
| 2.4.3.3 乳化剂的配比及用量 | 第35-37页 |
| 2.4.3.4 反应温度和反应时间 | 第37页 |
| 2.4.4 OSMS的表征 | 第37-41页 |
| 2.4.4.1 红外光谱 | 第37-39页 |
| 2.4.4.2 核磁共振氢谱 | 第39页 |
| 2.4.4.3 原子力显微镜(AFM) | 第39-40页 |
| 2.4.4.4 热性能(TG-DTA) | 第40-41页 |
| 2.4.4.5 粒径与Zeta电位 | 第41页 |
| 2.4.5 OSMS应用工艺的优化 | 第41-44页 |
| 2.4.5.1 整理液浓度对整理后织物性能的影响 | 第41-42页 |
| 2.4.5.2 整理液pH值对整理后织物性能的影响 | 第42-43页 |
| 2.4.5.3 焙烘温度和时间对整理后织物性能的影响 | 第43-44页 |
| 2.4.6 整理后织物的主要性能表征 | 第44-47页 |
| 2.4.6.1 X射线光电子能谱(XPS) | 第44-45页 |
| 2.4.6.2 扫描电镜(SEM) | 第45页 |
| 2.4.6.3 OSMS整理前后涤纶织物的接触角 | 第45-46页 |
| 2.4.6.4 OSMS整理前后涤纶织物的主要物理性能 | 第46-47页 |
| 2.5 本章小结 | 第47-48页 |
| 第三章 聚丙烯酸酯改性硅溶胶超疏水整理剂的合成及应用 | 第48-73页 |
| 3.1 引言 | 第48页 |
| 3.2 实验部分 | 第48-52页 |
| 3.2.1 实验试剂和仪器 | 第48-50页 |
| 3.2.2 聚丙烯酸酯改性硅溶胶超疏水整理剂的合成 | 第50-52页 |
| 3.2.2.1 中间体PLAK的合成 | 第50-51页 |
| 3.2.2.2 聚丙烯酸酯改性硅溶胶PLAKS的合成 | 第51-52页 |
| 3.2.3 PLAKS的应用工艺 | 第52页 |
| 3.3 测试方法 | 第52-55页 |
| 3.4 结果与讨论 | 第55-71页 |
| 3.4.1 影响中间体PLAK合成的工艺条件 | 第55-59页 |
| 3.4.1.1 聚合单体的质量比 | 第55-56页 |
| 3.4.1.2 引发剂的用量 | 第56-57页 |
| 3.4.1.3 乳化剂的配比及用量 | 第57-58页 |
| 3.4.1.4 聚合温度和保温时间 | 第58-59页 |
| 3.4.2 影响PLAKS合成的工艺条件 | 第59-61页 |
| 3.4.2.1 MTMS的用量 | 第59页 |
| 3.4.2.2 氨水的用量 | 第59-60页 |
| 3.4.2.3 反应温度 | 第60-61页 |
| 3.4.2.4 反应时间 | 第61页 |
| 3.4.3 PLAKS的表征 | 第61-65页 |
| 3.4.3.1 乳液的稳定性 | 第61-62页 |
| 3.4.3.2 红外光谱 | 第62-63页 |
| 3.4.3.3 核磁共振氢谱 | 第63页 |
| 3.4.3.4 原子力显微镜(AFM) | 第63-64页 |
| 3.4.3.5 热性能(TG-DTA) | 第64-65页 |
| 3.4.3.6 粒径与Zeta电位 | 第65页 |
| 3.4.4 PLAKS应用工艺的优化 | 第65-68页 |
| 3.4.4.1 整理剂浓度对整理后织物性能的影响 | 第65-66页 |
| 3.4.4.2 整理液pH值对整理后织物性能的影响 | 第66-67页 |
| 3.4.4.3 焙烘温度和时间对整理后织物性能的影响 | 第67-68页 |
| 3.4.5 整理后织物的主要性能表征 | 第68-71页 |
| 3.4.5.1 光电子能谱(EDS) | 第68-69页 |
| 3.4.5.2 X射线光电子能谱仪(XPS) | 第69页 |
| 3.4.5.3 扫描电镜(SEM) | 第69-70页 |
| 3.4.5.4 PLAKS整理前后涤纶织物的接触角 | 第70-71页 |
| 3.4.5.5 PLAKS整理前后涤纶织物的主要物理性能 | 第71页 |
| 3.5 本章小结 | 第71-73页 |
| 第四章 结论 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 攻读学位期间本人出版或公开发表的论著、论文 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82-83页 |
