碲化锑基低维材料的制备和物性研究
| 摘要 | 第2-3页 |
| Abstract | 第3页 |
| 第一章 绪论 | 第6-23页 |
| 1.1 引言 | 第6页 |
| 1.2 热电材料的简介 | 第6-10页 |
| 1.3 热电材料的纳米化 | 第10-14页 |
| 1.4 碲化锑的性能、制备方法及应用 | 第14-22页 |
| 1.4.1 碲化锑的基本性能 | 第14-22页 |
| 1.5 本文的主要研究内容 | 第22-23页 |
| 1.5.1 本文的主要研究内容 | 第22页 |
| 1.5.2 本文的创新点 | 第22-23页 |
| 第二章 碲化锑一维纳米结构的制备及表征 | 第23-31页 |
| 2.1 引言 | 第23-24页 |
| 2.2 实验部分 | 第24-26页 |
| 2.2.1 试剂与仪器 | 第24页 |
| 2.2.2 实验过程 | 第24-25页 |
| 2.2.3 样品的表征 | 第25-26页 |
| 2.3 实验结果与分析 | 第26-30页 |
| 2.4 本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 碲化锑薄膜的制备及表征 | 第31-38页 |
| 3.1 引言 | 第31-32页 |
| 3.2 实验 | 第32-34页 |
| 3.2.1 实验过程 | 第32页 |
| 3.2.2 衬底准备 | 第32-33页 |
| 3.2.3 实验设备 | 第33页 |
| 3.2.4 样品的表征 | 第33-34页 |
| 3.3 实验结果与分析 | 第34-37页 |
| 3.4 本章小结 | 第37-38页 |
| 第四章 工作总结与展望 | 第38-39页 |
| 4.1 工作总结 | 第38页 |
| 4.2 工作展望 | 第38-39页 |
| 参考文献 | 第39-47页 |
| 附录 | 第47-48页 |
| 致谢 | 第48-49页 |
