摘要 | 第6-8页 |
abstract | 第8-9页 |
第1章 绪论 | 第13-27页 |
1.1 课题研究背景及意义 | 第13-15页 |
1.2 生物医用材料 | 第15-20页 |
1.2.1 生物医用材料概述 | 第15-17页 |
1.2.2 生物医用金属材料 | 第17-19页 |
1.2.3 生物医用钛及钛合金 | 第19-20页 |
1.3 医用钛及钛合金的表面改性 | 第20-23页 |
1.3.1 钛及钛合金表面改性方法 | 第21-22页 |
1.3.2 微弧氧化技术 | 第22-23页 |
1.4 钛合金微弧氧化技术 | 第23-25页 |
1.4.1 钛合金微弧氧化过程 | 第23-24页 |
1.4.2 微弧氧化机理 | 第24-25页 |
1.4.3 钛合金微弧氧化膜性能 | 第25页 |
1.5 课题研究内容及创新性 | 第25-27页 |
第2章 实验研究方案 | 第27-34页 |
2.1 实验材料及设备 | 第27-28页 |
2.1.1 实验材料及化学试剂 | 第27-28页 |
2.1.2 实验设备 | 第28页 |
2.1.3 微弧氧化实验 | 第28页 |
2.2 生物活性膜制备 | 第28-30页 |
2.3 生物活性实验 | 第30-32页 |
2.3.1 样品碱化处理实验 | 第31页 |
2.3.2 模拟体液培养实验 | 第31-32页 |
2.4 膜层分析与检测 | 第32-34页 |
2.4.1 膜层厚度的测量 | 第32页 |
2.4.2 氧化膜及生物活性膜的形貌分析 | 第32-33页 |
2.4.3 氧化膜及生物活性膜物相检测 | 第33页 |
2.4.4 膜层表面元素检测 | 第33-34页 |
第3章 微弧氧化工艺研究 | 第34-46页 |
3.1 微弧氧化膜层优化 | 第34-39页 |
3.1.1 氧化陶瓷膜表面形貌 | 第34-35页 |
3.1.2 氧化陶瓷膜表面形貌指标 | 第35-37页 |
3.1.3 氧化陶瓷层物相变化 | 第37-39页 |
3.2 氧化陶瓷膜的热处理 | 第39-44页 |
3.2.1 氧化膜热处理后表面形貌 | 第39-42页 |
3.2.2 氧化陶瓷膜热处理后物相变化 | 第42-44页 |
3.3 本章小结 | 第44-46页 |
第4章 制备条件对氧化陶瓷膜物相影响 | 第46-63页 |
4.1 磷酸盐电解液下TC4氧化陶瓷层制备 | 第46-53页 |
4.1.1 微弧氧化时间对膜层表面形貌的影响 | 第46-47页 |
4.1.2 微弧氧化时间对膜层表面形貌指标的影响 | 第47-49页 |
4.1.3 微弧氧化时间对膜层物相相对含量的影响 | 第49-50页 |
4.1.4 添加剂浓度对膜层表面形貌的影响 | 第50-51页 |
4.1.5 添加剂浓度对膜层表面形貌指标的影响 | 第51-52页 |
4.1.6 添加剂浓度对膜层物相相对含量的影响 | 第52-53页 |
4.2 硅酸盐电解液下TC4氧化陶瓷膜制备 | 第53-61页 |
4.2.1 峰值电压对膜层表面形貌的影响 | 第53-54页 |
4.2.2 峰值电压对膜层表面形貌指标的影响 | 第54-56页 |
4.2.3 峰值电压对氧化膜层物相相对含量的影响 | 第56-57页 |
4.2.4 占空比对膜层表面形貌的影响 | 第57-58页 |
4.2.5 占空比对膜层形貌指标的影响 | 第58-59页 |
4.2.6 占空比对氧化膜表面物相相对含量的影响 | 第59-61页 |
4.3 本章小结 | 第61-63页 |
第5章 氧化陶瓷层生物活性研究 | 第63-83页 |
5.1 碱化处理氧化陶瓷层 | 第63-65页 |
5.1.1 陶瓷膜碱化处理后发生的化学反应 | 第63-64页 |
5.1.2 碱化处理后氧化膜层表面形貌 | 第64-65页 |
5.2 热处理改变物相相对含量对膜层生物活性影响 | 第65-68页 |
5.2.1 模拟体液培养后生物陶瓷膜物相变化情况 | 第65-66页 |
5.2.2 生物活性膜的表面形貌及元素的变化情况 | 第66-68页 |
5.3 实验参数改变物相相对含量对膜层生物活性影响 | 第68-80页 |
5.3.1 氧化时间改变物相相对含量对膜层生物活性影响 | 第69-71页 |
5.3.2 添加剂浓度改变物相相对含量对膜层生物活性影响 | 第71-74页 |
5.3.3 峰值电压改变物相对含量对膜层生物活性影响 | 第74-77页 |
5.3.4 占空比改变物相相对含量对膜层生物活性影响 | 第77-80页 |
5.4 本章小结 | 第80-83页 |
结论 | 第83-84页 |
参考文献 | 第84-90页 |
攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果 | 第90-91页 |
致谢 | 第91-92页 |