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基于惩罚样条方法的散点图光滑研究

摘要第3-4页
ABSTRACT第4页
1 绪论第7-10页
    1.1 国内外文献现状第7-8页
    1.2 创新点第8页
    1.3 本文的结构安排第8-10页
2 非参数回归模型介绍第10-11页
3 样条基函数的类型第11-16页
    3.1 截断多项式样条基第11-12页
    3.2 B-spline 基第12-14页
    3.3 其它类型样条基函数第14-15页
    3.4 本章小结第15-16页
4 惩罚样条估计第16-20页
    4.1 惩罚样条回归第16-18页
    4.2 其他惩罚项类型第18页
    4.3 本章小结第18-20页
5 参数的选择准则第20-26页
    5.1 光滑算子的自由度第20-21页
    5.2 GCV 准则第21-22页
    5.3 基于 GCV 准则的 EM 算法第22-23页
    5.4 REML 准则第23-24页
    5.5 基于 REML 准则的 EM 算法第24-25页
    5.6 本章小结第25-26页
6 模拟与实例分析第26-33页
    6.1 数值模拟第26-31页
    6.2 实证分析第31-32页
    6.3 本章小结第32-33页
7 总结和展望第33-35页
    7.1 本文总结第33页
    7.2 展望第33-35页
致谢第35-36页
参考文献第36-39页
附录 A第39-41页
附录 B第41页
    作者在攻读硕士学位期间发表的论文目录第41页

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