基于惩罚样条方法的散点图光滑研究
摘要 | 第3-4页 |
ABSTRACT | 第4页 |
1 绪论 | 第7-10页 |
1.1 国内外文献现状 | 第7-8页 |
1.2 创新点 | 第8页 |
1.3 本文的结构安排 | 第8-10页 |
2 非参数回归模型介绍 | 第10-11页 |
3 样条基函数的类型 | 第11-16页 |
3.1 截断多项式样条基 | 第11-12页 |
3.2 B-spline 基 | 第12-14页 |
3.3 其它类型样条基函数 | 第14-15页 |
3.4 本章小结 | 第15-16页 |
4 惩罚样条估计 | 第16-20页 |
4.1 惩罚样条回归 | 第16-18页 |
4.2 其他惩罚项类型 | 第18页 |
4.3 本章小结 | 第18-20页 |
5 参数的选择准则 | 第20-26页 |
5.1 光滑算子的自由度 | 第20-21页 |
5.2 GCV 准则 | 第21-22页 |
5.3 基于 GCV 准则的 EM 算法 | 第22-23页 |
5.4 REML 准则 | 第23-24页 |
5.5 基于 REML 准则的 EM 算法 | 第24-25页 |
5.6 本章小结 | 第25-26页 |
6 模拟与实例分析 | 第26-33页 |
6.1 数值模拟 | 第26-31页 |
6.2 实证分析 | 第31-32页 |
6.3 本章小结 | 第32-33页 |
7 总结和展望 | 第33-35页 |
7.1 本文总结 | 第33页 |
7.2 展望 | 第33-35页 |
致谢 | 第35-36页 |
参考文献 | 第36-39页 |
附录 A | 第39-41页 |
附录 B | 第41页 |
作者在攻读硕士学位期间发表的论文目录 | 第41页 |