摘要 | 第6-7页 |
Abstract | 第7页 |
第1章 绪论 | 第10-19页 |
1.1 课题的研究背景与意义 | 第10-13页 |
1.1.1 课题的研究背景 | 第10页 |
1.1.2 陶瓷球轴承的分类 | 第10-11页 |
1.1.3 氮化硅陶瓷的优点和特性 | 第11-12页 |
1.1.4 课题研究的意义 | 第12-13页 |
1.2 国内外研究现状 | 第13-17页 |
1.2.1 国内外陶瓷球的发展 | 第13-14页 |
1.2.2 国内外陶瓷球研磨设备介绍 | 第14-17页 |
1.3 陶瓷球研磨加工的工艺研究 | 第17页 |
1.4 课题研究的主要内容 | 第17-19页 |
第2章 陶瓷球毛坯的制备 | 第19-26页 |
2.1 氮化硅粉末的制备技术 | 第19-20页 |
2.2 氮化硅陶瓷粉末配混料和制粒技术 | 第20-21页 |
2.3 氮化硅毛坯球的成型技术 | 第21-22页 |
2.3.1 干压-冷等静压成型技术 | 第21-22页 |
2.3.2 冷等静压直接成型法 | 第22页 |
2.3.3 氮化硅陶瓷毛坯球成型的总结 | 第22页 |
2.4 氮化硅毛坯球的质量控制技术 | 第22-23页 |
2.5 氮化硅毛坯球的烧结技术 | 第23-24页 |
2.6 关于毛坯球制备的改进技术的介绍 | 第24-25页 |
2.7 本章小结 | 第25-26页 |
第3章 陶瓷球的研磨加工机理和过程 | 第26-35页 |
3.1 陶瓷球加工技术和难点 | 第26页 |
3.2 陶瓷球的研磨加工机理 | 第26-28页 |
3.3 陶瓷球的加工工艺流程 | 第28-30页 |
3.4 影响陶瓷球研磨加工的因素 | 第30-33页 |
3.4.1 工艺参数对陶瓷球加工的影响 | 第30-31页 |
3.4.2 磨料和研磨剂对陶瓷球加工的影响 | 第31-33页 |
3.4.3 工艺装备对陶瓷球加工的影响 | 第33页 |
3.4.4 工艺环节对加工指标的影响 | 第33页 |
3.5 本章小结 | 第33-35页 |
第4章 研球机主轴的热态特性分析 | 第35-42页 |
4.1 研球机的介绍及其主轴有限元模型的建立 | 第35-36页 |
4.2 主轴的热源以及稳态热分布分析 | 第36-39页 |
4.3 主轴热变形的计算与分析 | 第39-40页 |
4.4 热-力耦合部分分析 | 第40-41页 |
4.5 抑制加工精度变化的措施 | 第41页 |
4.6 本章小结 | 第41-42页 |
第5章 研磨板沟槽的设计及改进研究 | 第42-57页 |
5.1 研磨板的沟槽设计 | 第42-48页 |
5.1.1 沟槽尺寸设计 | 第43页 |
5.1.2 压沟深度控制与选择 | 第43-45页 |
5.1.3 研磨盘沟槽形状 | 第45-46页 |
5.1.4 研球机 3M4740沟槽及压沟尺寸计算 | 第46-48页 |
5.2 陶瓷球在沟槽中的运动及受力 | 第48-52页 |
5.2.1 球加工过程中的运动理论 | 第48-49页 |
5.2.2 陶瓷球在研磨过程中的受力分析 | 第49-52页 |
5.3 沟槽偏置对球加工的影响 | 第52-56页 |
5.3.1 沟槽偏置对球加工轨迹的影响研究 | 第52-54页 |
5.3.2 沟槽偏置对球自转速度的影响研究 | 第54页 |
5.3.3 改进方案的总结以及沟槽内偏的范围讨论 | 第54-56页 |
5.4 本章小结 | 第56-57页 |
第6章 总结与展望 | 第57-59页 |
6.1 总结 | 第57-58页 |
6.2 展望 | 第58-59页 |
参考文献 | 第59-62页 |
致谢 | 第62-63页 |
作者简介 | 第63-64页 |
研究生期间发表的论文和科研成果 | 第64-65页 |