| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-22页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 硬质薄膜的分类与发展 | 第11-13页 |
| 1.3 国内外硬质薄膜技术的研究发展概况 | 第13-15页 |
| 1.3.1 国外硬质薄膜研究动态 | 第13-14页 |
| 1.3.2 国内硬质薄膜技术的发展 | 第14-15页 |
| 1.3.3 对我国硬质薄膜发展的展望 | 第15页 |
| 1.4 TiAlN薄膜概述 | 第15-17页 |
| 1.4.1 结构性能 | 第15-16页 |
| 1.4.2 TiAlN薄膜的主要应用 | 第16-17页 |
| 1.5 TiAlSiN概述 | 第17-18页 |
| 1.5.1 TiAlSiN的结构 | 第17页 |
| 1.5.2 TiAlSiN薄膜的应用 | 第17-18页 |
| 1.6 硬质合金涂层制备方法 | 第18-21页 |
| 1.6.1 化学气相沉积 | 第18-19页 |
| 1.6.2 物理气相沉积 | 第19页 |
| 1.6.3 真空蒸发镀 | 第19页 |
| 1.6.4 离子镀 | 第19-20页 |
| 1.6.5 热喷涂技术 | 第20页 |
| 1.6.6 等离子体技术 | 第20-21页 |
| 1.7 论文研究的意义与主要研究内容 | 第21-22页 |
| 第2章 实验原理及设备 | 第22-33页 |
| 2.1 磁控溅射技术简介 | 第22-26页 |
| 2.1.1 溅射理论 | 第22页 |
| 2.1.2 直流辉光放电 | 第22-24页 |
| 2.1.3 磁控溅射原理 | 第24-25页 |
| 2.1.4 反应磁控溅射 | 第25-26页 |
| 2.2 实验设备与流程 | 第26-27页 |
| 2.2.1 实验所用设备 | 第26页 |
| 2.2.2 靶材选择及实验流程 | 第26-27页 |
| 2.3 薄膜测试仪器及分析方法 | 第27-33页 |
| 2.3.1 显微硬度计 | 第27-28页 |
| 2.3.2 X射线衍射仪(XRD) | 第28页 |
| 2.3.3 扫描电子显微镜 | 第28页 |
| 2.3.4 涂层附着力自动划痕仪 | 第28-29页 |
| 2.3.5 高温箱式电阻炉 | 第29页 |
| 2.3.6 中性盐雾实验 | 第29-30页 |
| 2.3.7 摩擦磨损实验机 | 第30页 |
| 2.3.8 电化学测试 | 第30-33页 |
| 第3章 TiAlN制备与表征 | 第33-55页 |
| 3.1 制备工艺 | 第33页 |
| 3.2 TiAlN薄膜的XRD分析 | 第33-37页 |
| 3.2.1 N_2分压对TiAlN薄膜XRD的影响 | 第33-34页 |
| 3.2.2 温度对TiAlN薄膜XRD的影响 | 第34-35页 |
| 3.2.3 功率对TiAlN薄膜XRD的影响 | 第35-36页 |
| 3.2.4 靶材中铝含量对TiAlN薄膜XRD的影响 | 第36-37页 |
| 3.3 TiAlN的表面形貌分析 | 第37-41页 |
| 3.3.1 N_2对TiAlN表面形貌的影响 | 第37-39页 |
| 3.3.2 温度对TiAlN形貌的影响 | 第39-40页 |
| 3.3.3 功率对表面形貌的影响 | 第40-41页 |
| 3.4 TiAlN薄膜硬度分析 | 第41-44页 |
| 3.4.1 N_2分压对薄膜显微硬度的影响 | 第41-42页 |
| 3.4.2 硬度随功率的变化 | 第42-43页 |
| 3.4.3 温度对硬度影响 | 第43-44页 |
| 3.5 TiAlN薄膜结合力分析 | 第44-48页 |
| 3.5.1 温度对结合力的影响 | 第44-46页 |
| 3.5.2 基底的选择对结合力影响 | 第46-47页 |
| 3.5.3 不同靶材最佳工艺参数下的结合力分析 | 第47-48页 |
| 3.6 中性盐雾实验分析 | 第48-50页 |
| 3.6.1 N_2分压对TiAlN薄膜耐蚀性的影响 | 第48-49页 |
| 3.6.2 功率对TiAlN薄膜耐蚀性的影响 | 第49-50页 |
| 3.6.3 铝含量对TiAlN薄膜耐蚀性的影响 | 第50页 |
| 3.7 TiAlN薄膜的抗氧化性研究 | 第50-53页 |
| 3.8 TiAlN薄膜摩擦系数分析 | 第53-54页 |
| 3.9 本章小结 | 第54-55页 |
| 第4章 TiAlSiN薄膜的制备与表征 | 第55-67页 |
| 4.1 TiAlSiN的制备及工艺参数选择 | 第55页 |
| 4.2 Si原子加入TiAlSiN薄膜的XRD结果影响 | 第55-57页 |
| 4.3 TiAlSiN薄膜形貌分析 | 第57-59页 |
| 4.3.1 N_2分压对TiAlSiN薄膜形貌的影响 | 第57-58页 |
| 4.3.2 功率对TiAlSiN薄膜形貌的影响 | 第58-59页 |
| 4.4 Si原子的引入对显微硬度的影响 | 第59-61页 |
| 4.5 基底对TiAlSiN薄膜结合力的影响 | 第61-62页 |
| 4.6 抗氧化性分析 | 第62-64页 |
| 4.7电化学测试 | 第64-65页 |
| 4.8 TiAlSiN薄膜摩擦系数 | 第65-66页 |
| 4.9 本章小结 | 第66-67页 |
| 第5章 结论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 致谢 | 第72页 |
