摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第9-23页 |
1.1 电致变色材料概述 | 第9-13页 |
1.1.1 电致变色材料的发展历程 | 第9-11页 |
1.1.2 电致变色材料的分类 | 第11-13页 |
1.2 电致变色机理 | 第13-14页 |
1.2.1 WO_3的电致变色机理 | 第13-14页 |
1.2.2 NiO_x的电致变色机理 | 第14页 |
1.3 电致变色器件 | 第14-16页 |
1.4 薄膜的制备方法 | 第16-20页 |
1.4.1 真空蒸镀法 | 第17页 |
1.4.2 溶胶凝胶法 | 第17页 |
1.4.3 化学气相沉积法 | 第17-18页 |
1.4.4 电化学沉积法 | 第18页 |
1.4.5 磁控溅射法 | 第18-20页 |
1.5 NiO_x电致变色薄膜 | 第20页 |
1.5.1 NiO_x基本的物化性质 | 第20页 |
1.5.2 NiO_x的优点与问题 | 第20页 |
1.6 研究现状与本课题的选题意义 | 第20-23页 |
第2章 实验内容 | 第23-29页 |
2.1 实验设备与所用材料 | 第23-24页 |
2.2 薄膜的分析与表征 | 第24-27页 |
2.2.1 膜厚测量 | 第24页 |
2.2.2 X射线衍射分析 | 第24-25页 |
2.2.3 表面形貌分析 | 第25页 |
2.2.4 透射光谱分析 | 第25页 |
2.2.5 成分价态分析 | 第25-26页 |
2.2.6 光谱椭偏分析 | 第26页 |
2.2.7 电致变色性能测试 | 第26-27页 |
2.3 本章小结 | 第27-29页 |
第3章 氩氧比对W掺杂NiO_x薄膜的影响 | 第29-47页 |
3.1. 样品制备 | 第29页 |
3.2 成分价态分析 | 第29-38页 |
3.2.1 样品表面经Ar~+离子刻蚀后的XPS测试结果 | 第30-33页 |
3.2.2 样品表面未经Ar~+离子刻蚀的XPS测试结果 | 第33-36页 |
3.2.3 不同预处理方式下XPS测试结果的对比分析 | 第36-38页 |
3.3 晶体结构分析 | 第38-39页 |
3.4 表面形貌分析 | 第39-42页 |
3.5 透射光谱分析 | 第42-44页 |
3.6 光谱椭偏仪分析 | 第44-46页 |
3.7 本章小结 | 第46-47页 |
第4章 镀膜过程工作气压对W掺杂NiO_x薄膜的影响 | 第47-59页 |
4.1 样品制备 | 第47页 |
4.2 成分价态分析 | 第47-51页 |
4.3 晶体结构分析 | 第51-52页 |
4.4 表面形貌分析 | 第52-53页 |
4.5 透射光谱分析 | 第53-55页 |
4.6 光谱椭偏仪分析 | 第55-57页 |
4.7 本章小结 | 第57-59页 |
第5章 无机全固态电致变色器件的制备和性能测试 | 第59-63页 |
5.1 无机全固态电致变色器件的设计 | 第59页 |
5.2 无机全固态电致变色器件的制备和性能测试 | 第59-61页 |
5.3 本章小结 | 第61-63页 |
结论与展望 | 第63-65页 |
1.结论 | 第63页 |
2.展望 | 第63-65页 |
参考文献 | 第65-71页 |
攻读学位期间参加科研情况及取得的研究成果 | 第71-73页 |
致谢 | 第73页 |