| 摘要 | 第8-10页 |
| 摘要(英文版) | 第10-11页 |
| 符号说明 | 第12-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-20页 |
| 1.1 稀土离子发光 | 第13-14页 |
| 1.2 氧化锌晶体 | 第14-17页 |
| 1.2.1 关于氧化锌 | 第14-15页 |
| 1.2.2 氧化锌薄膜制备 | 第15-17页 |
| 1.3 ZnO:Er的研究状况 | 第17-18页 |
| 1.4 论文的研究内容与安排 | 第18-20页 |
| 第二章 实验分析及测试方法 | 第20-27页 |
| 2.1 磁控溅射 | 第20-21页 |
| 2.2 卢瑟福背散射技术 | 第21-23页 |
| 2.2.1 基本原理 | 第21-22页 |
| 2.2.2 动力学K因子 | 第22-23页 |
| 2.2.3 薄膜厚度及元素浓度计算 | 第23页 |
| 2.3 红外荧光测试系统 | 第23-24页 |
| 2.4 离子注入 | 第24-26页 |
| 2.4.1 基本原理 | 第24-25页 |
| 2.4.2 射程分布 | 第25-26页 |
| 2.5 其他实验手段 | 第26-27页 |
| 第三章 ZnO:Er薄膜的生长及性质特征 | 第27-35页 |
| 3.1 关于磁控溅射条件的选择 | 第27-30页 |
| 3.1.1 陶瓷靶子的订制 | 第27-28页 |
| 3.1.2 关于磁控溅射条件的设置 | 第28-30页 |
| 3.2 材料表征 | 第30-34页 |
| 3.2.1 关于薄膜的表面形貌 | 第30-31页 |
| 3.2.2 关于薄膜的结晶性质 | 第31-33页 |
| 3.2.3 关于薄膜的厚度及组分 | 第33-34页 |
| 3.3 实验结论 | 第34-35页 |
| 第四章 ZnO:Er薄膜的基础荧光性质研究 | 第35-43页 |
| 4.1 实验过程及测试方法 | 第35-36页 |
| 4.2 实验结果与讨论 | 第36-42页 |
| 4.2.1 薄膜厚度对PL的影响 | 第36-37页 |
| 4.2.2 退火温度对PL的影响 | 第37-40页 |
| 4.2.3 薄膜衬底对PL的影响 | 第40-42页 |
| 4.3 实验结论 | 第42-43页 |
| 第五章 衬底Si扩散对Er-1540nm荧光的影响 | 第43-51页 |
| 5.1 实验过程及测试方法 | 第43-44页 |
| 5.2 实验结果与讨论 | 第44-49页 |
| 5.2.1 薄膜表征 | 第44-46页 |
| 5.2.2 薄膜荧光 | 第46-47页 |
| 5.2.3 能量传输 | 第47-49页 |
| 5.3 实验结论 | 第49-51页 |
| 第六章 离子注入对ZnO:Er薄膜的荧光性质研究 | 第51-57页 |
| 6.1 实验过程及测试手段 | 第51-52页 |
| 6.2 实验结果及分析 | 第52-56页 |
| 6.2.1 样品在常温下的荧光性质 | 第52-54页 |
| 6.2.2 氮气退火后的样品性质 | 第54-55页 |
| 6.2.3 逐步退火后的样品性质 | 第55-56页 |
| 6.3 实验结论 | 第56-57页 |
| 第七章 总结 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及获得的奖励 | 第65-68页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第68页 |