| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第12-19页 |
| 1.1 研究意义 | 第12-13页 |
| 1.2 聚酰亚胺概述 | 第13-15页 |
| 1.2.1 聚酰亚胺的合成 | 第13-14页 |
| 1.2.2 聚酰亚胺的应用 | 第14-15页 |
| 1.3 纳米粒子的概述 | 第15-16页 |
| 1.3.1 纳米粒子的制备方法 | 第15页 |
| 1.3.2 纳米粒子的性能 | 第15-16页 |
| 1.4 PI/无机纳米复合材料 | 第16-18页 |
| 1.4.1 PI/无机纳米复合材料的制备方法 | 第16-17页 |
| 1.4.2 PI/无机纳米复合材料的研究进展 | 第17-18页 |
| 1.5 课题来源及研究内容 | 第18-19页 |
| 1.5.1 课题来源 | 第18页 |
| 1.5.2 课题研究内容 | 第18-19页 |
| 第2章 实验部分 | 第19-25页 |
| 2.1 实验原料及设备 | 第19-20页 |
| 2.1.1 实验原料 | 第19-20页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第20页 |
| 2.2 复合薄膜的制备 | 第20-22页 |
| 2.2.1 纯 PAA 胶液的制备 | 第20页 |
| 2.2.2 杂化 PAA 胶液的制备 | 第20-21页 |
| 2.2.3 铺膜及亚胺化过程 | 第21-22页 |
| 2.3 测试与表征 | 第22-24页 |
| 2.3.1 透射电子显微镜表征 | 第22页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜表征 | 第22-23页 |
| 2.3.3 红外光谱表征 | 第23页 |
| 2.3.4 X 射线衍射表征 | 第23页 |
| 2.3.5 力学性能测试 | 第23页 |
| 2.3.6 击穿场强测试 | 第23页 |
| 2.3.7 耐电晕性能测试 | 第23-24页 |
| 2.4 本章小结 | 第24-25页 |
| 第3章 无机粉体的分散方法对 PI 薄膜性能的影响 | 第25-36页 |
| 3.1 SEM 分析 | 第25-26页 |
| 3.2 FTIR 分析 | 第26-28页 |
| 3.3 XRD 分析 | 第28-29页 |
| 3.4 分散方法对 PI 薄膜力学性能的影响 | 第29-30页 |
| 3.5 分散方法对 PI 薄膜击穿场强的影响 | 第30-32页 |
| 3.6 分散方法对 PI 薄膜耐电晕性的影响 | 第32-35页 |
| 3.7 本章小结 | 第35-36页 |
| 第4章 SiO_2掺杂量及其亲疏水性对薄膜性能的影响 | 第36-51页 |
| 4.1 亲水性 SiO_2颗粒和疏水性 SiO_2颗粒的表征 | 第36-39页 |
| 4.1.1 TEM 分析 | 第36-37页 |
| 4.1.2 FTIR 分析 | 第37-38页 |
| 4.1.3 XRD 分析 | 第38-39页 |
| 4.2 SiO_2掺杂量及其亲疏水性对薄膜性能的影响 | 第39-50页 |
| 4.2.1 SEM 分析 | 第39-42页 |
| 4.2.2 SiO_2掺杂量及其亲疏水性对薄膜力学性能的影响 | 第42-45页 |
| 4.2.3 SiO_2掺杂量及其亲疏水性对薄膜击穿场强的影响 | 第45-47页 |
| 4.2.4 SiO_2掺杂量及其亲疏水性对薄膜耐电晕性的影响 | 第47-50页 |
| 4.3 本章小结 | 第50-51页 |
| 结论 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-57页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58页 |
