一种新型喷墨打印头的设计及制作
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 1 绪论 | 第8-12页 |
| 1.1 背景介绍 | 第8-10页 |
| 1.2 国内外研究进展及市场概况 | 第10页 |
| 1.3 本文研究意义 | 第10-11页 |
| 1.4 本文研究内容 | 第11-12页 |
| 2 打印技术介绍及喷墨头结构的提出 | 第12-20页 |
| 2.1 打印技术及打印机分类 | 第12-15页 |
| 2.1.1 针式打印机及其技术 | 第12-13页 |
| 2.1.2 激光打印机及其技术 | 第13-15页 |
| 2.1.3 喷墨打印机及其技术 | 第15页 |
| 2.2 结构的提出 | 第15-17页 |
| 2.2.1 新结构喷墨头的结构及喷墨原理 | 第16-17页 |
| 2.3 模拟分析 | 第17-20页 |
| 3 喷墨头结构的制作过程 | 第20-30页 |
| 3.1 工艺提出与背景介绍 | 第20-21页 |
| 3.2 具体工艺流程 | 第21-30页 |
| 3.2.1 硅片的清洗 | 第21页 |
| 3.2.2 热氧化制备二氧化硅 | 第21-22页 |
| 3.2.3 PECVD方式生长氮化硅 | 第22页 |
| 3.2.4 制备下电极 | 第22-23页 |
| 3.2.5 腐蚀下电极 | 第23页 |
| 3.2.6 制备PZT薄膜 | 第23-24页 |
| 3.2.7 溅射铂金并通过剥离的方泫制作上电极 | 第24-25页 |
| 3.2.8 腐蚀PZT薄膜 | 第25页 |
| 3.2.9 制备绝缘层 | 第25页 |
| 3.2.10 刻蚀绝缘层制各引线孔 | 第25-26页 |
| 3.2.11 干法刻蚀单晶硅 | 第26-27页 |
| 3.2.12 上腔室的制作 | 第27-30页 |
| 4 工艺过程中出现的问题及解决方案 | 第30-45页 |
| 4.1 PZT的优化(裂纹和颗粒的控制) | 第30-34页 |
| 4.1.1 制备PZT压电薄膜的过程 | 第30-31页 |
| 4.1.2 制备PZT薄膜时裂纹与颗粒的控制 | 第31-34页 |
| 4.2 氮化硅薄膜的制备与优化 | 第34-37页 |
| 4.2.1 振动板材料的选择 | 第35页 |
| 4.2.2 使用PECVD方式制备氮化硅 | 第35-37页 |
| 4.3 设计方案的改进与尝试 | 第37-44页 |
| 4.3.1 牺牲层技术制作腔室 | 第37-42页 |
| 4.3.2 无上腔室结构 | 第42-44页 |
| 4.4 本章小结 | 第44-45页 |
| 5 实验测试结果与实验的改进 | 第45-51页 |
| 5.1 激光多普勒振动测试及结果 | 第45-50页 |
| 5.1.1 激光多普勒振动测试原理 | 第45-47页 |
| 5.1.2 激光多普勒振动测试光路 | 第47页 |
| 5.1.3 振动板的振动测试 | 第47-48页 |
| 5.1.4 墨滴喷射测试实验 | 第48-50页 |
| 5.2 本章小结 | 第50-51页 |
| 结论 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-55页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
