| 摘要 | 第10-12页 |
| ABSTRACT | 第12-13页 |
| 第一章 绪论 | 第14-22页 |
| 1.1 课题来源与意义 | 第14-15页 |
| 1.1.1 课题的来源 | 第14页 |
| 1.1.2 课题的研究背景与意义 | 第14-15页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第15-20页 |
| 1.2.1 国外研究现状 | 第15-19页 |
| 1.2.2 国内研究现状 | 第19页 |
| 1.2.3 发展趋势 | 第19-20页 |
| 1.3 本文的主要研究内容 | 第20-22页 |
| 第二章 金属铝镜可抛性研究 | 第22-34页 |
| 2.1 金属铝镜直接抛光去除原理 | 第22页 |
| 2.2 酸碱性环境对金属铝镜直接抛光的影响 | 第22-26页 |
| 2.2.1 酸性条件下的金属铝镜直接抛光 | 第23-24页 |
| 2.2.2 碱性条件下的金属铝镜直接抛光 | 第24-26页 |
| 2.3 抛光盘与抛光磨料的选用 | 第26-33页 |
| 2.3.1 抛光盘选用 | 第26-29页 |
| 2.3.2 抛光磨料的选用 | 第29-33页 |
| 2.4 本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 影响抛光表面质量的工艺参数研究 | 第34-52页 |
| 3.1 单因素抛光实验 | 第34-44页 |
| 3.1.1 压力对抛光表面质量的影响 | 第35-37页 |
| 3.1.2 转速对抛光表面质量的影响 | 第37-40页 |
| 3.1.3 PH值对抛光表面质量的影响 | 第40-42页 |
| 3.1.4 粒径大小对抛光表面质量的影响 | 第42-43页 |
| 3.1.5 抛光时间对抛光表面质量的影响 | 第43-44页 |
| 3.2 正交抛光实验 | 第44-48页 |
| 3.2.1 正交实验简介 | 第44页 |
| 3.2.2 金属铝镜直接抛光正交实验 | 第44-48页 |
| 3.3 提高表面质量抛光实验 | 第48-51页 |
| 3.3.1 金属铝镜表面直接抛光实验 | 第48-50页 |
| 3.3.2 抛光后的金属铝镜表面质量分析 | 第50-51页 |
| 3.4 本章小结 | 第51-52页 |
| 第四章 计算机控制金属铝镜直接光学抛光 | 第52-64页 |
| 4.1 计算机控制表面成形技术简介 | 第52-53页 |
| 4.2 平面金属铝镜直接光学抛光 | 第53-56页 |
| 4.2.1 计算机控制平面金属铝镜直接光学抛光实验 | 第53-55页 |
| 4.2.2 平面金属铝镜表面加工结果分析 | 第55-56页 |
| 4.3 非球面金属铝镜直接光学抛光 | 第56-60页 |
| 4.3.1 计算机控制非球面金属铝镜直接光学抛光实验 | 第57-58页 |
| 4.3.2 非球面金属铝镜光表面加工结果分析 | 第58-60页 |
| 4.4 自由曲面金属铝镜直接光学抛光 | 第60-63页 |
| 4.4.1 自由曲面表面综述 | 第60页 |
| 4.4.2 自由曲面金属铝镜直接抛光实验 | 第60-63页 |
| 4.5 本章小结 | 第63-64页 |
| 第五章 结论及展望 | 第64-66页 |
| 5.1 全文总结 | 第64-65页 |
| 5.2 研究展望 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第72页 |