| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 引言 | 第13-31页 |
| 1.1 石墨烯简介 | 第14-16页 |
| 1.1.1 石墨烯性质 | 第14-15页 |
| 1.1.2 石墨烯的合成方法 | 第15页 |
| 1.1.3 石墨烯的衍生物 | 第15-16页 |
| 1.2 石墨烯的功能化 | 第16-29页 |
| 1.2.1 石墨烯共价修饰 | 第17-25页 |
| 1.2.2 石墨烯非共价修饰 | 第25-29页 |
| 1.3 选题意义及研究内容 | 第29-31页 |
| 第二章 实验原料和表征手段 | 第31-35页 |
| 2.1 实验原料和仪器 | 第31-32页 |
| 2.1.1 实验原料 | 第31-32页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第32页 |
| 2.2 材料的表征方法 | 第32-35页 |
| 2.2.1 ~1H NMR | 第32-33页 |
| 2.2.2 ~(13)C NMR | 第33页 |
| 2.2.3 凝胶渗透色谱（GPC） | 第33页 |
| 2.2.4 傅里叶变换红外光谱（FT-IR） | 第33页 |
| 2.2.5 紫外光谱（UV-vis） | 第33页 |
| 2.2.6 荧光光谱 | 第33页 |
| 2.2.7 拉曼光谱 | 第33页 |
| 2.2.8 X射线衍射（XRD） | 第33-34页 |
| 2.2.9 热重（TG） | 第34页 |
| 2.2.10 透射电镜（TEM） | 第34页 |
| 2.2.11 场发射扫描电镜（FE-SEM） | 第34-35页 |
| 第三章 壳聚糖-石墨烯复合材料的制备、表征及性能研究 | 第35-57页 |
| 3.1 实验部分 | 第35-40页 |
| 3.1.1 高脱乙酰度壳聚糖的制备 | 第35页 |
| 3.1.2 氧化石墨烯溶液的制备 | 第35-36页 |
| 3.1.3 壳聚糖/石墨烯复合材料（CS-r GO）的制备 | 第36-37页 |
| 3.1.4 空白对比样品r GO的制备 | 第37-38页 |
| 3.1.5 药物缓释性能测试方法的建立 | 第38-40页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第40-51页 |
| 3.2.1 FT-IR表征 | 第40-41页 |
| 3.2.2 TG表征 | 第41-43页 |
| 3.2.3 紫外表征 | 第43-46页 |
| 3.2.4 Raman表征 | 第46-49页 |
| 3.2.5 XRD表征 | 第49-50页 |
| 3.2.6 TEM表征 | 第50页 |
| 3.2.7 FE-SEM表征 | 第50-51页 |
| 3.3 CS-rGO的分散性能研究 | 第51-54页 |
| 3.3.1 不同分子量对壳聚糖/石墨烯材料（CS-r GO）分散性能的影响 | 第51-52页 |
| 3.3.2 不同pH值对壳聚糖/石墨烯材料（CS-r GO）分散性能的影响 | 第52-54页 |
| 3.4 CS-rGO的药物缓释性能研究 | 第54-55页 |
| 3.4.1 不同分子量壳聚糖对DOX缓释性能 | 第54-55页 |
| 3.4.2 不同分子量壳聚糖-石墨烯复合材料对DOX缓释性能 | 第55页 |
| 3.5 本章小结 | 第55-57页 |
| 第四章 壳聚糖离子液体衍生物-石墨烯复合材料的制备、表征及性能研究 | 第57-80页 |
| 4.1 实验部分 | 第57-61页 |
| 4.1.1 3-溴烷基-1-甲基咪唑溴化物的制备 | 第57-58页 |
| 4.1.2 壳聚糖衍生物（CILC）的制备 | 第58-60页 |
| 4.1.3 壳聚糖衍生物-石墨烯复合材料（CILC-r GO）的制备 | 第60-61页 |
| 4.1.4 空白对比样品r GO的制备 | 第61页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第61-73页 |
| 4.2.1 FT-IR表征 | 第61-62页 |
| 4.2.2 TG表征 | 第62-65页 |
| 4.2.3 紫外表征 | 第65-68页 |
| 4.2.4 Raman表征 | 第68-71页 |
| 4.2.5 XRD表征 | 第71-72页 |
| 4.2.6 TEM表征 | 第72-73页 |
| 4.2.7 FE-SEM表征 | 第73页 |
| 4.3 壳聚糖衍生物/石墨烯复合材料（CILC-rGO）的分散性能研究 | 第73-76页 |
| 4.4 壳聚糖衍生物-石墨烯复合材料（CILC-rGO）的药物缓释性能研究 | 第76-78页 |
| 4.5 小结 | 第78-80页 |
| 第五章 非共价咔唑基共轭高分子-石墨烯材料的制备、表征及其分散性能 | 第80-99页 |
| 5.1 实验部分 | 第80-84页 |
| 5.1.1 三种咔唑基共轭高分子（P1、P2、P3）的制备 | 第80-83页 |
| 5.1.2 非共价咔唑基高分子-石墨烯复合材料（P-r GO）的制备 | 第83-84页 |
| 5.1.3 空白对比样品r GO的制备 | 第84页 |
| 5.2 结果与讨论 | 第84-96页 |
| 5.2.1 FT-IR表征 | 第84-86页 |
| 5.2.2 TG表征 | 第86-87页 |
| 5.2.3 荧光表征 | 第87-89页 |
| 5.2.4 紫外表征 | 第89-91页 |
| 5.2.5 拉曼表征 | 第91-92页 |
| 5.2.6 XRD表征 | 第92-93页 |
| 5.2.7 TEM表征 | 第93-95页 |
| 5.2.8 FE-SEM表征 | 第95-96页 |
| 5.3 非共价咔唑基共轭高分子-石墨烯材料（P-rGO）的分散性能研究 | 第96-98页 |
| 5.4 小结 | 第98-99页 |
| 第六章 共价咔唑基共轭高分子-石墨烯复合材料的制备、表征及其分散性能 | 第99-118页 |
| 6.1 实验部分 | 第99-101页 |
| 6.1.1 共价咔唑基共轭高分子-石墨烯复合材料（G-P）的制备 | 第99-101页 |
| 6.2 结果与讨论 | 第101-116页 |
| 6.2.1 有关氮负离子的表征 | 第101-103页 |
| 6.2.2 FT-IR表征 | 第103-105页 |
| 6.2.3 TG表征 | 第105-107页 |
| 6.2.4 荧光表征 | 第107-108页 |
| 6.2.5 紫外表征 | 第108-111页 |
| 6.2.6 拉曼表征 | 第111-112页 |
| 6.2.7 XRD表征 | 第112-113页 |
| 6.2.8 TEM表征 | 第113-115页 |
| 6.2.9 FE-SEM表征 | 第115-116页 |
| 6.3 G-P复合材料的分散性能研究 | 第116-117页 |
| 6.4 小结 | 第117-118页 |
| 结论 | 第118-119页 |
| 参考文献 | 第119-127页 |
| 攻读硕士期间发表论文 | 第127-128页 |
| 致谢 | 第128页 |
