| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-23页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 TiO_2纳米管的制备方法 | 第10-13页 |
| 1.2.1 模板合成法 | 第10页 |
| 1.2.2 水热合成法 | 第10-11页 |
| 1.2.3 阳极氧化法 | 第11-13页 |
| 1.3 阳极氧化制备TiO_2纳米管的研究现状 | 第13-17页 |
| 1.3.1 形成机理研究 | 第13-15页 |
| 1.3.2 影响因素研究 | 第15-17页 |
| 1.4 TiO_2纳米管的改性研究进展 | 第17-20页 |
| 1.4.1 非金属掺杂 | 第18-19页 |
| 1.4.2 金属掺杂 | 第19-20页 |
| 1.5 本课题的研究目的、意义及研究内容 | 第20-23页 |
| 1.5.1 研究目的及意义 | 第20-21页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第21-23页 |
| 2 实验部分 | 第23-31页 |
| 2.1 实验试剂及设备 | 第23-24页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第23页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第23-24页 |
| 2.2 实验方法 | 第24-28页 |
| 2.2.1 Ti_3SiC_2试样的制备及预处理 | 第24-26页 |
| 2.2.2 钛片的预处理 | 第26-27页 |
| 2.2.3 阳极氧化 | 第27-28页 |
| 2.3 实验表征方法 | 第28-31页 |
| 2.3.1 场发射扫描电子显微镜 | 第28-29页 |
| 2.3.2 X射线衍射分析 | 第29页 |
| 2.3.3 X射线光电子能谱分析 | 第29-31页 |
| 3 阳极氧化Ti_3SiC_2制备纳米孔阵列 | 第31-43页 |
| 3.1 氧化工艺条件对表面形貌的影响 | 第31-34页 |
| 3.1.1 氧化电压对表面形貌的影响 | 第31-32页 |
| 3.1.2 NH_4F质量分数对表面形貌的影响 | 第32-33页 |
| 3.1.3 氧化时间对表面形貌的影响 | 第33-34页 |
| 3.2 XRD结果分析 | 第34-36页 |
| 3.3 电解液成分分析 | 第36页 |
| 3.4 XPS结果分析 | 第36-38页 |
| 3.5 阳极氧化Ti_3SiC_2过程中的电流-时间曲线分析 | 第38-40页 |
| 3.5.1 电压的影响 | 第38-39页 |
| 3.5.2 NH_4F质量分数的影响 | 第39-40页 |
| 3.5.3 含水量的影响 | 第40页 |
| 3.6 本章小结 | 第40-43页 |
| 4 阳极氧化Ti制备纳米管阵列 | 第43-57页 |
| 4.1 氧化工艺对表面形貌的影响 | 第43-47页 |
| 4.1.1 氧化电压对表面形貌的影响 | 第43-45页 |
| 4.1.2 NH_4F质量分数对表面形貌的影响 | 第45-46页 |
| 4.1.3 含水量对表面形貌的影响 | 第46-47页 |
| 4.2 XRD结果分析 | 第47-48页 |
| 4.3 阳极氧化Ti过程中的电流-时间曲线分析 | 第48-52页 |
| 4.3.1 电压的影响 | 第49-50页 |
| 4.3.2 NH_4F质量分数的影响 | 第50-51页 |
| 4.3.3 含水量的影响 | 第51-52页 |
| 4.4 阳极氧化Ti_3SiC_2和Ti的对比分析 | 第52-54页 |
| 4.5 本章小结 | 第54-57页 |
| 5 结论 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-67页 |
| 附录 硕士研究生期间发表论文 | 第67-69页 |
| 致谢 | 第69页 |